牛津儀器 等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（PECVD）PlasmaPro 1000 參考價(jià)：面議
大面積刻蝕與沉積的量產(chǎn)型解決方案，LED工業(yè)要求高產(chǎn)量，高器件質(zhì)量和低購(gòu)置成本。 PlasmaPro 1000更好地解決了這些需求。 更大的批量生產(chǎn)能力 高產(chǎn)量...
牛津儀器 等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（PECVD）PlasmaPro 800 參考價(jià)：面議
PlasmaPro 800為大批量和300毫米晶圓的等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）工藝提供了一種靈活的解決方案，占地面積小，開(kāi)放式裝載系統(tǒng)。大型的晶圓壓盤(pán)...
牛津儀器 等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（PECVD）PlasmaPro 80 參考價(jià)：面議
PlasmaPro 80是一種結(jié)構(gòu)緊湊且使用方便的小型直開(kāi)式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能確保工藝性能。直開(kāi)式設(shè)計(jì)可實(shí)現(xiàn)快...
牛津儀器 等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（PECVD）PlasmaPro 100 參考價(jià)：面議
設(shè)計(jì)PECVD工藝模式的目的是要在控制薄膜性能，如折射率、應(yīng)力、電學(xué)特性和濕法化學(xué)刻蝕速率的前提下，生產(chǎn)均勻性好且沉積速率高的薄膜。 高質(zhì)量的薄膜，高產(chǎn)量和出色...
牛津儀器 電感耦合等離子體刻蝕PlasmaPro 100 Polaris 參考價(jià)：面議
牛津儀器 電感耦合等離子體刻蝕PlasmaPro 100 Polaris 專為刻蝕堅(jiān)硬材料（如GaN，藍(lán)寶石和SiC）所需要使用的腐蝕性化學(xué)氣體而設(shè)計(jì)，可在直徑...
牛津儀器 電感耦合等離子體刻蝕PlasmaPro 100 Estrelas 參考價(jià)：面議
牛津儀器 電感耦合等離子體刻蝕PlasmaPro 100 Estrelas平臺(tái)旨在提供深硅蝕刻（DSiE）領(lǐng)域的的靈活性以滿足微電子機(jī)械系統(tǒng)（MEMS）、 先進(jìn)...
牛津儀器 電感耦合等離子體刻蝕PlasmaPro 100 Cobra 參考價(jià)：面議
牛津儀器 電感耦合等離子體刻蝕PlasmaPro 100 Cobra可安裝多種襯底電極，能夠在很寬的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行工藝，具有200mm單晶圓和多晶圓批處理能力，...
牛津儀器 電感耦合等離子體刻蝕PlasmaPro 80 ICP 參考價(jià)：面議
牛津儀器 電感耦合等離子體刻蝕PlasmaPro 80 ICP 是一種結(jié)構(gòu)緊湊、小型且使用方便的直開(kāi)式系統(tǒng)，可提供多種刻蝕解決方案。 它易于放置，便于使用，且能...
牛津儀器 納米操縱手OmniProbe 400 參考價(jià)：面議
牛津儀器 納米操縱手OmniProbe 400是第九代納米操縱手，采用壓電驅(qū)動(dòng)技術(shù)，可以實(shí)現(xiàn)納米級(jí)別的定位。 OmniProbe 400具有很高的靈活性和性能，...
牛津儀器 納米操縱手OmniProbe 350 參考價(jià)：面議
牛津儀器 納米操縱手OmniProbe 350是三軸、端口安裝式機(jī)械手，其特點(diǎn)是具有閉環(huán)反饋的壓電馬達(dá)，非常適合常規(guī)的TEM薄片制備。精確直觀的控制意味著您可以...
牛津儀器 納米操縱手OmniProbe 200 參考價(jià)：面議
牛津儀器 納米操縱手OmniProbe 200是一款安裝在FIB和SEM端口上的納米操縱手，內(nèi)置了一個(gè)100nm閉環(huán)反饋控制器，具有準(zhǔn)確、靈活、易用等特點(diǎn)。使用...
標(biāo)樂(lè)Buehler SimpliVac真空鑲嵌系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
標(biāo)樂(lè)Buehler SimpliVac真空鑲嵌系統(tǒng)可排除樣品中的空氣， 能夠地填充試樣內(nèi)部的孔隙及鑲嵌樹(shù)脂與試樣之間的縫隙。 由此， 邊緣保持得到加強(qiáng)， 易碎樣...
標(biāo)樂(lè)Buehler SimpliMet 4000自動(dòng)安裝壓力機(jī) 參考價(jià)：面議
標(biāo)樂(lè)Buehler SimpliMet 4000自動(dòng)安裝壓力機(jī)，的安裝壓力機(jī)，專為24/7使用而設(shè)計(jì)。 消除安裝階段的瓶頸，將切割后的樣品迅速轉(zhuǎn)變?yōu)榭纱蚰ズ蛼伖?..
Keithley吉時(shí)利 PCT參數(shù)波形記錄儀 參考價(jià)：面議
Keithley吉時(shí)利 PCT參數(shù)波形記錄儀，開(kāi)發(fā)和使用MOSFET、IGBT、二極管和其他大功率器件，需要全面的器件級(jí)檢定，如擊穿電壓、通態(tài)電流和電容測(cè)量。 ...
Keithley吉時(shí)利 微波開(kāi)關(guān)S46RF 參考價(jià)：面議
S46 和 S46T 微波開(kāi)關(guān)系統(tǒng)用于簡(jiǎn)化測(cè)試各種射頻和電信產(chǎn)品及設(shè)備所需的自動(dòng)開(kāi)關(guān)。 S46 可以在一個(gè)小至 2U 高（3.5 英寸）全機(jī)架機(jī)箱的機(jī)箱中控制 ...
Keithley吉時(shí)利 納伏表2182A 參考價(jià)：面議
Keithley吉時(shí)利 納伏表2182A，雙通道 2182A 型納伏表進(jìn)行穩(wěn)定的低噪聲電壓測(cè)量，以及適合可靠且重復(fù)地檢定低阻材料和器件。 相比其他低電壓測(cè)量解決...
Keithley吉時(shí)利 超靈敏電流源6200系列 參考價(jià)：面議
6220 型直流電流源和 6221 型交流和直流電流源將易用性與極低的電流噪聲相結(jié)合。 在測(cè)試環(huán)境中，從研發(fā)到生產(chǎn)，尤其是在半導(dǎo)體、納米技術(shù)和超導(dǎo)體行業(yè)，低電流...
Keithley吉時(shí)利 皮安表6400系列 參考價(jià)：面議
Keithley吉時(shí)利 皮安表6400系列，經(jīng)濟(jì)實(shí)惠的 5 位 6485 型皮安表可以測(cè)量 10fA 至 20mA 的電流，速度高達(dá)每秒 1000 個(gè)讀數(shù)。64...
Keithley吉時(shí)利 超低電阻配置6200/2182A系列 參考價(jià)：面議
Keithley吉時(shí)利 超低電阻配置6200/2182A系列連接時(shí)，2182A 型和 6220 或 6221 型可以如同一臺(tái)儀器一樣運(yùn)行。2182A/622X ...
Keithley吉時(shí)利 半導(dǎo)體參數(shù)分析儀4200A-SCS 參考價(jià)：面議
使用吉時(shí)利4200A-SCS參數(shù)分析儀（參數(shù)測(cè)試儀） 加快各類材料、半導(dǎo)體器件和先進(jìn)工藝的開(kāi)發(fā)，完成制程控制、可靠性分析和故障分析。 4200A-SCS是業(yè)內(nèi)性...
Keithley吉時(shí)利 高電阻/低電流靜電計(jì)6500/6430系列 參考價(jià)：面議
Keithley吉時(shí)利 高電阻/低電流靜電計(jì)6500/6430系列，從三個(gè)敏感選項(xiàng)中選擇，實(shí)現(xiàn)精確的高阻抗和低電流測(cè)量。5 位 6514 型和 6517B 型靜...
Keithley吉時(shí)利 恒電位儀2450-EC/2460-EC/2461-EC 參考價(jià)：面議
Keithley吉時(shí)利 恒電位儀2450-EC/2460-EC/2461-EC操作靈活、成本低，非常適合于基本電化學(xué)實(shí)驗(yàn)室研究、檢定下一代材料和電解質(zhì)、新型儲(chǔ)能...
Keithley吉時(shí)利 適合激光二極管的光學(xué)SMU 參考價(jià)：面議
通過(guò) Keithley 儀器，可以輕松構(gòu)建 LIV（光功率-電流-電壓）系統(tǒng)，從而經(jīng)濟(jì)高效地測(cè)試激光二極管模塊。 光纖對(duì)準(zhǔn)光電二極管儀表 2502：高速模擬輸出...
Keithley吉時(shí)利 高密度系統(tǒng)SourceMeter(SMU)2606B 參考價(jià)：面議
Keithley吉時(shí)利 高密度系統(tǒng)SourceMeter(SMU)2606B在 1U 高的機(jī)箱中提供四條 20 瓦 SMU 通道。由于制造商需要優(yōu)化占地空間并減...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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