• 更大的批量生產能力

• 高產量

• 更穩定的器件質量

• 低購置成本

• 提供單晶圓傳送腔室或者多至三個腔室的集群式配置

• 標準的真空傳送腔室，具有直開式和集群式選項

• 出色的正常運轉時間

• 高質量器件性能和良率

特點

PlasmaPro 1000設備能為LED生產商提供更好的行業優勢

490mm電極 - 更為先進的批量規模，多達7 x 6”晶圓，提供了更高的產量

可靠的硬件系統易維護性 - 出色的正常運轉時間

壓盤 - 增強晶圓冷卻

Z向可移動電極 - 更好的均勻性

雙進氣口 - 易于工藝調整

特殊的載盤設計 - 每片晶圓在最小的邊緣去除區域之內，均獲得有效的冷卻，且易于使用和維護

高導通的徑向（軸對稱）抽氣結構 - 確保提升了工藝均勻性和速率

應用

• 高質量PECVD沉積氮化硅和二氧化硅，用于光子學、電介質層、鈍化以及諸多其它用途
• 用于高亮度LED生產的硬掩模沉積和刻蝕