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簡介：真空快速退火爐AS-One是一種通用的RTP系統(tǒng)，可用于開發(fā)快速熱退火和快速熱CVD工藝。

簡介：高真空退火爐可實現(xiàn)，高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置儀器，在高速加熱高速冷卻時，具有良好的溫度分布。可實現(xiàn)寬域均熱區(qū)，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護加熱式樣，無氣氛污染。可在高真空，高出純...

簡介：RTP-3-04系列自立式4吋真空快速退火爐采用紅外輻射加熱技術(shù)，可實現(xiàn)大尺寸樣品(4英寸)快速升溫和降溫，可用于快速熱處理(RTP)、快速熱退火(RTA)、快速熱氧化(RTO)、快速熱氮化(RT...

簡介：武漢嘉儀通科技有限公司成立于2009年，是一家技術(shù)自主創(chuàng)新的國家新技術(shù)企業(yè)。公司集快速退火爐研發(fā)、市場和技術(shù)服務(wù)于一體的快速退火爐廠家，本公司生產(chǎn)銷售的快速退火爐覆蓋1-12吋樣品測試，分為科研與...

簡介：嘉儀通晶化快速退火爐RTP-3-01系列采用紅外輻射加熱技術(shù)，可實現(xiàn)1吋(選配2吋)樣品快速升溫和降溫，同時搭配超高精度溫度控制系統(tǒng)，可達到好的溫場均勻性，對薄膜材料進行晶化快速退火處理，提高薄膜...

簡介：半導(dǎo)體芯片退火設(shè)備RTP快速退火爐可應(yīng)用于集成電路的離子注入退火；集成電路、LED芯片、半導(dǎo)體激光器芯片、射頻芯片、MEMS芯片、功率器件、分立器件、第三代半導(dǎo)體等的合金化退火；石墨烯，Au納米晶...

簡介：快速退火爐嘉儀通RTP4吋快速退火爐控溫精度準升溫速度快半導(dǎo)體退火設(shè)備采用紅外輻射加熱技術(shù)，可實現(xiàn)大尺寸樣品（4英寸樣品）快速升溫和降溫，同時搭配高精度溫度控制系統(tǒng)，可達到比較好的溫場均勻性，對材...

簡介：

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