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自感應(yīng)探針原子力顯微鏡(研究型)

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產(chǎn)品型號(hào):WinSPM R? 采用壓電自感應(yīng)探針? 測(cè)量環(huán)境無(wú)激光干擾? 可安裝短工作距離物鏡? 研究特質(zhì)、

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介:

可采用多種壓電自感應(yīng)探針的原子力顯微鏡(AFM),研究特質(zhì)、。實(shí)現(xiàn)形貌成像分析和譜曲線測(cè)量功能,測(cè)試環(huán)境免激光干擾,適合與光譜儀器聯(lián)用。



儀器特點(diǎn)

  • 標(biāo)配支持多種壓電自感應(yīng)探針,包括Akiyama探針和WinSPM探針。

  • 測(cè)量成像無(wú)需激光檢測(cè),可避免環(huán)境光線對(duì)樣品及測(cè)量的影響。

  • 內(nèi)部空間足夠安裝高倍光學(xué)物鏡,可實(shí)現(xiàn)與光譜儀器的共聚焦聯(lián)用。

  • 采用超高精度嵌入式測(cè)控系統(tǒng),主機(jī)隔音抗震,測(cè)量成像更精準(zhǔn)。

  • 可選配平面閉環(huán)型掃描器、納米加工模塊和靜電力顯微鏡等模塊。

  • 支持探針自制、功能定制和應(yīng)用拓展。

Akiyama探針

WinSPM探針



主要技術(shù)參數(shù)

  • 一鍵式快速自動(dòng)進(jìn)樣,行程23mm,最小步距10nm。

  • 手動(dòng)樣品調(diào)節(jié)二維臺(tái),調(diào)節(jié)范圍±8.0mm。

  • 樣品尺寸的直徑20mm,厚度20mm。

  • 標(biāo)配管型掃描器,掃描范圍約為20μm×20μm×5μm。

  • 可配平面閉環(huán)型掃描器,掃描范圍約為30μm×30μm×9μm,閉環(huán)分辨率約1.5nm。

  • 樣品逐行掃描成像,掃描成像速率0.1-30行/秒。

  • 一次掃描多幅圖像,圖像分辨高達(dá)2048×2048物理象素。

  • 自感應(yīng)探針采用頻率調(diào)制方式,數(shù)字化PID反饋控制的響應(yīng)時(shí)間為10μs。

  • 嵌入式測(cè)控系統(tǒng)采用主頻為450MHz的雙核處理器(ARM + DSP),內(nèi)置數(shù)模混合結(jié)構(gòu)的鎖相放大器,與上位機(jī)連接采用以太網(wǎng)TCP/IP通訊協(xié)議。

  • 聯(lián)用光學(xué)物鏡的最短工作距離僅需9.5毫米,能夠安裝放大倍數(shù)為100X的光學(xué)物鏡。


標(biāo)準(zhǔn)配置:

  • 主控制器

  • 主機(jī)底座及隔音罩

  • 主機(jī)探頭及探針架(A型和D型)

  • 樣品調(diào)節(jié)二維臺(tái)(調(diào)節(jié)范圍±8.0mm)

  • 管型掃描器(掃描范圍20μm)

  • 專(zhuān)用計(jì)算機(jī)及測(cè)控軟件

  • 儀器附件


A型探針架

(WinSPM A-Probe)


D型探針架

(WinSPM D-Probe)



選配模塊:

  • 與光譜儀聯(lián)用模塊,包含:光學(xué)物鏡及其位置調(diào)節(jié)平臺(tái)(調(diào)節(jié)范圍±5.5mm)、與光譜儀的光路適配、聯(lián)用測(cè)控所需的硬件與軟件

  • 掃描隧道顯微鏡(STM)模塊,包括:掃描隧道顯微鏡的硬件與軟件、WinSPM T-Probe探針架

  • 納米加工模塊,包括:圖形化納米加工、機(jī)械刻蝕、矢量掃描等功能

  • 輔助觀察光學(xué)顯微鏡系統(tǒng):物鏡倍數(shù):0.7X~4.5X;總放大倍數(shù):42-266X連續(xù)可調(diào)(14”有效顯示面積);工作距離:115mm

  • 管型掃描器模塊:掃描范圍有8μm、20/30μm和100μm共3種規(guī)格

  • 平面閉環(huán)掃描器:掃描范圍為30μm×30μm×9μm,閉環(huán)分辨率約1.5nm,垂直方向的諧振頻率約40kHz



應(yīng)用領(lǐng)域及實(shí)驗(yàn)

  • 實(shí)驗(yàn)一:在無(wú)環(huán)境光干擾的條件下研究材料表面的形貌等物性,典型的應(yīng)用領(lǐng)域包括:納米材料研究、光電/發(fā)光材料及器件、二維材料及器件、集成電路檢測(cè)。

  • 實(shí)驗(yàn)二:納米微區(qū)的力學(xué)測(cè)量與分析,典型應(yīng)用包括:力梯度-距離曲線、納米力學(xué)實(shí)驗(yàn)研究、納米臺(tái)階或液膜厚度的測(cè)量分析,納米尺度粘彈物性的測(cè)量分析。

  • 實(shí)驗(yàn)三:與光譜儀器的聯(lián)用,如與拉曼光譜聯(lián)用可原位測(cè)得納米微區(qū)的拉曼光譜,或開(kāi)展針尖增強(qiáng)拉曼光譜(TERS)實(shí)驗(yàn)研究。(需增配與光譜儀聯(lián)用模塊)

  • 實(shí)驗(yàn)四:掃描隧道顯微鏡(STM)應(yīng)用,包括形貌成像和隧道譜。(需增配STM模塊)

  • 實(shí)驗(yàn)五:納米加工實(shí)驗(yàn),如圖形化納米刻蝕實(shí)驗(yàn)研究。(需增配納米加工模塊) 

  • 實(shí)驗(yàn)六:其它基于導(dǎo)電針尖的原子力顯微鏡應(yīng)用領(lǐng)域及實(shí)驗(yàn),包括:導(dǎo)電原子力顯微鏡(C-AFM)、靜電力顯微鏡(EFM)、開(kāi)爾文探針力顯微鏡(KPFM)等。(需增配或定制相應(yīng)的功能模塊)。

儀器整體照片

光柵形貌圖(20×20μm)




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