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等離子清洗機PICO

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等離子清洗機PICO 產品說明: 5L——10.6 L精密型等離子清洗機PICO可以組合成不同的模塊系統,可以清洗所有類型的污染物及分解分子構成的殘留污染物,增強材料表面的潤濕性,是確保在 涂漆、粘接、印刷 或者 鍵合 時與結合配偶體 粘附 的前提條件。 應用領域: PICO也可用于各向異性和各向同性蝕刻。通過化學蝕刻進行各向同性蝕刻,通過物理蝕刻進行各向異性蝕刻。使用低壓等離子體,可以改良具有不同涂層的工件。 在線咨詢

詳細信息 在線詢價

    設備:等離子清洗機PICO
    銷售:
    產品功能:

    清洗: 工藝部件的表面通過離子束的物理轟擊而被清洗,也可與特定氣體發生化學反應從而被清洗,清洗掉的工藝污染物轉化為氣相被排出。 如:去除有機污染物,去除納米級微粒,去除氧化層

    活化:工藝部件表面通過氧氣或空氣處理后,會在表面形成氧原子團,這樣能使部件表面親水性和表面張力提高,能使涂料和粘接劑更好的附著于上,提高其的粘合力和附著力。 如:PDMS鍵合,粘接前的預處理,涂裝前的預處理,印刷前的預處理。


    蝕刻:工藝部件表面通過特定氣體達到精確濺射,表面材料被剝離,轉變成氣相被排出,濺射后的材料表面積增大并更易濕潤,也使材料表面更粗糙化。通過改變工藝參數可使材料表面蝕刻出一定的形狀。如:硅蝕刻,PTFE/PFA/FEP蝕刻,光刻膠去除。


    涂層:使工藝部件表面發生等離子聚合反應,前驅單體導入等離子真空腔室后使其電離并沉積至材料表面,隨即發生聚合反應,形成聚合物層。如:疏水層,親水層,保護/阻隔層,干潤滑層,疏油層。
     

    具體應用:
    • 去除部件封裝(半導體)
    • 支架(牙醫)

    • 傳感器
    • 精密驅動間
    • 車大燈反射鏡
    • 攝像頭

     

    主要技術參數 1.半自動控制
    2.根據工藝要求不同,可設定功率、壓強、氣體流量等參數
    3.雙路工作氣體,氣體流量通過針型閥流量計控制
    4.反應艙為高硼硅玻璃腔體,直徑130mm 長300 mm ,容積約為5L
    5.發生器頻率40KHz功率0~200W
    6.反射波自動調節
    7.電極材質為鋁
    8.運行模式為手動
    9.配套真空泵的排氣能力為4m3/Hour,配有強制進氣閥,國產飛越真空泵
    10*配有壓力傳感器,可根據工藝要求設定壓力值
    11.外尺寸:W560mm*D600mm*H460-860mm
    12.電源電壓:單相AC230V 16A

    選配:
    控制系統: 全自動PCCE控制/全自動PC控制。

     
    氣體:
    氣體流量控制器MFC,多路氣體
     
    腔體:
    圓形不銹鋼,帶蓋(約 ∅ 150 mm,長 320 mm 或長 600 mm)
    矩形不銹鋼,帶鉸鏈的門(約寬 160 mm x 高 160 mm x 深 325 mm 或 600 mm)
    矩形鋁材,帶鉸鏈的門(約 ∅ 160 mm x 160 mm,長 325 mm 或長 600 mm)
    圓形石英玻璃 (UHP),配有蓋子或者帶鉸鏈的門(約 ∅ 130 mm,長 300 mm 或長 600 mm)
    圓形硼硅玻璃 (UHP),配有蓋子或者帶鉸鏈的門(約 ∅ 130 mm,長 300 mm 或長 600 mm)
     
    托盤:
    石英玻璃舟皿/粉末轉鼓/散裝件轉鼓/鋁板/不銹鋼板/硼硅玻璃/石英玻璃 /水冷型
     
    壓力測量:
    Pirani/電容式壓力計(適用于腐蝕性氣體版本)
     
    發生器:
    40 kHz: 0 - 200 W/0 -1000 W             100 kHz:0- 500 W              80 kHz:0- 1000 W              13.56 MHz:  0 - 100 W/ 300 W              2.45 GHz: 0 - 300 W
     
    其他:
    ......


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