在近代科學技術的許多領域中對各種薄膜的研究和應用日益廣泛。因此，更加精確和迅速的測定給定薄膜的光學參數已變得更加迫切和重要。在實際工作中可以利用各種傳統的方法測定光學參數。由于橢圓偏振法具有靈敏度高、精度高、非破壞性測量等優點，因而，橢圓偏振法測量已在光學、半導體、生物、醫學等諸多領域得到廣泛應用。

儀器簡介：

在近代科學技術的許多領域中對各種薄膜的研究和應用日益廣泛。因此，更加精確和迅速的測定給定薄膜的光學參數已變得更加迫切和重要。在實際工作中可以利用各種傳統的方法測定光學參數，如：布儒斯特角法測介質膜的折射率，干涉法測膜厚，其它測膜厚的方法還有稱重法、X射線法、電容法、橢偏法等。由于橢圓偏振法具有靈敏度高、精度高、非破壞性測量等優點，因而，橢圓偏振法測量已在光學、半導體、生物、醫學等諸多領域得到廣泛應用。

技術參數：

規格與主要技術指標： 
測量范圍：薄膜厚度范圍：1nm-300nm； 折射率范圍：1-10 
測量zui小示值：≤1nm 入射光波長：632.8nm 
光學中心高：80mm 允許樣品尺寸：φ10-φ140mm，厚度≤16mm 
偏振器方位角范圍：0°- 180°讀取分辨率為0.05° 
測量膜厚和折射率重復性精度分別為：±1nm和±0.01 
主機重量：25kg 入射角連續調節范圍：20°- 90°精度為0.05°

主要特點：

儀器采用消光法自動測量薄膜厚度和折射率，具有精度高、靈敏度高以及方便測量等特點； 
光源采用氦氖激光器，功率穩定、波長精度高； 
儀器配有生成表、查表以及精確計算等軟件，方便用戶使用。