XAU-4C是一款設計結構緊湊，模塊精密化程度較高的光譜分析儀，采用了下照式C型腔體設計，是一款一機多用型光譜儀

XAU-4C是一款設計結構緊湊，模塊精密化程度較高的光譜分析儀，采用了下照式C型腔體設計，是一款一機多用型光譜儀。

應用核心EFP算法和微光聚集技術，既保留了專用測厚儀檢測微小樣品和凹槽的性能，又可滿足微區(qū)RoHS檢測及成分分析。

被廣泛用于各類產品的質量管控、來料檢驗和對生產工藝控制的測量使用。

• 微小樣品檢測：最小測量面積0.03mm²（加長測量時間可小至0.01mm²）

• 變焦裝置算法：可改變測量距離測量凹凸異形樣品，變焦距離可達0-30mm

• 自主研發(fā)的EFP算法：Li（3）-U（92）元素的涂鍍層，多層多元素，甚至有同種元素在不同層也可準確測量

• 的解譜技術：減少能量相近元素的干擾，降低檢出限

• 高性能探測器：SDD硅漂移窗口面積25/50mm²探測器

• 光路系統：微焦加強型射線管搭配聚集

• 多準直器自動切換