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XAU-4CS光譜分析儀 SDD探測器

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XAU-4CS光譜分析儀測量面積:最小0.03mm2

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XAU-4CS光譜分析儀

測量面積:最小0.03mm2;電鍍層分析:23層鍍層24種元素;儀器特點:RoHS鹵素有害元素;儀器優勢:同元素不同層分析

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性能優勢:

1.微小樣品檢測:最小測量面積0.03mm2(加長測量時間可小至0.01mm2)

2.變焦裝置算法:可改變測量距離測量凹凸異形樣品,變焦距離可達0-30mm

3.的EFP算法:Li(3)-U(92)元素的涂鍍層,多層多元 素,甚至有同種元素在不同層也可精準測量。   

4.的解譜技術:減少能量相近元素的干擾,降低檢出限。   

5.高性能探測器:SDD硅漂移窗口面積25mm2探測器。   

6.X射線裝置:微焦加強型射線管搭配聚焦裝置。 

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測厚儀的光路交換裝置,讓X射線和可見光攝像同一垂直線,達到視覺與測試定位一體,且X光擴散度小;與EFP軟件配合達到對焦、變焦雙焦功能,實現高低、凹凸不平各種形狀樣品的測試;高集成的光路交換裝置與接收器的角度可縮小一倍,可以減少弧度傾斜放樣帶來的誤差,同時特征X射線可以穿透測試更厚的表層。

的EFP算法

專業的研發團隊在Alpha和Fp法的基礎上,計算樣品中每個元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增強效應、散射背景等多元優化迭代開發出EFP核心算法,結合的光路轉換技術、變焦結構設計及穩定的多道脈沖分析采集系統,只需要少量的標樣來校正儀器因子,可測試重復鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及有機物層的厚度及成分含量。

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RoHS檢測及標定

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