PMMA（聚甲基丙烯酸甲酯）是一種通用的聚合材料，適用于許多成像和非成像微電子系統。PMMA光刻膠是將PMMA聚合物溶解在諸如苯甲醚之類的安全溶劑中，曝光會導致聚合物鏈斷裂。PMMA作直寫式電子束的高分辨率正性光刻膠，它具有的分辨率，易于處理和出色的薄膜特性。PMMA還可用作晶圓薄化的保護涂層，粘結粘合劑和刻蝕層。

PMMA正性光刻膠

PMMA（聚甲基丙烯酸甲酯）是一種通用的聚合材料，適用于許多成像和非成像微電子系統。PMMA光刻膠是將PMMA聚合物溶解在諸如苯甲醚之類的安全溶劑中，曝光會導致聚合物鏈斷裂。PMMA作直寫式電子束的高分辨率正性光刻膠，它具有的分辨率，易于處理和出色的薄膜特性。PMMA還可用作晶圓薄化的保護涂層，粘結粘合劑和刻蝕層。

材料用途： 晶圓減薄 防護涂料 PHEMT 多層T門工藝 其他直寫式電子束工藝

材質屬性： 正調 電子束和X射線可成像 膜厚范圍廣 對大多數基材具有出色的附著力

共聚物光刻膠是基于PMMA和?8.5％甲基丙烯酸的混合物。共聚物MMA（8.5）通常與PMMA結合使用在雙層剝離抗蝕劑工藝中，該工藝需要獨立控制CD尺寸和每個光刻膠層的形狀。標準共聚物光刻膠是在乳酸乙酯中配制的，并且可以在很寬的膜厚范圍內使用。