1200℃滑動式單、雙、三溫區CVD系統
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- 公司名稱 天津中環電爐股份有限公司
- 品牌
- 型號
- 所在地
- 廠商性質 生產廠家
- 更新時間 2021/4/7 16:59:30
- 訪問次數 219
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產品用途:此款CVD系統適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結真空淬火退火,快速降溫等工藝實驗。
產品用途:
此款CVD系統適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控
生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結真空淬火退火,快速降溫等工藝實驗。
產品組成:
CVD系統配置:
1.1200度開啟式真空管式爐(可選配多溫區)。
2.滑動系統分為手動、電動滑動,并配有風冷系統。
3.多路質量流量控制系統
4.真空系統(可選配中真空或高真空)
產品特點:
1 控制電路選用模糊PID程控技術,該技術控溫精度高,熱慣性小,溫度不過沖,性能可靠,操作簡單。
2 氣路快速連接法蘭結構采用本公司*的知識產權設計,提高操作便捷性。
3 中真空系統具有真空度上下限自動控制功能,高真空系統采用高壓強,耐沖擊分子泵,防止意外漏氣造成分子泵損壞,延長系統使用壽命。
4 (電動)滑動系統采用溫度控制器自動控制爐體移動,等程序完成,爐體按設定的速度滑動,因有滑動限位功能爐體不會發生碰撞,待樣品露出爐體后,通過風冷系統快速降溫。
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