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| 美國 PVA TePla 等離子表面清洗系統 |
| 等離子體清洗是在分子水平上用於精確清潔基材的乾燥，無溶劑技術。 精密清洗是用於工業用的應用範圍從微電子半導體晶片清洗科研的生物負擔去污廣譜的要求。 實現和製造*方法期間保持表面清潔度在分子水平。
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| 優點: • 方便快捷 • 沒有污染物 • 不需要濕化學品 應用範圍: • 微電子半導體 • 晶片清洗 • 科研的生物去污
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| 全新! |
| INLINE高產量PECVD系統 (Inline High Capacity PECVD Systems) |
| ILHC是一個連續的高速真空等離子系統。它提供了等離子體輔助化學氣相沉積(PECVD)，蝕刻，清洗和活化在高生產環境全過程控制。 ILHC是為了滿足廣大客戶的高產能量的要求。它提供了快速的工藝處理時間，的均勻性和精確的厚度控制。它提供*的過程控制，故障安全報警和完整的數據采集和報告軟件系統。 ILHC使用射頻(RF)產生的等離子體，結合*的傳送系統中清楚地闡明和*集成封裝。該設計便于安裝和維護。 |
| 特性: • 連續流處理 |
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 可進行多種類界面 |  * 輸出功率高達 ： 每月500,000 devices （基本尺寸 ：1” x 1” Devices） |  * 根據界面的形狀： 非均勻性降低至5% |
| RF 射頻等離子清洗/鍍膜系統 |
| IoN 3B |
| 特性: 腔室尺寸( D x H): 140mm x 200mm x 110mm |
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| IoN 7B |
| 特性: 腔室尺寸( D x H): 200mm x 220mm x 160mm |
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