日立高新離子研磨裝置IM4000主要特點:1. 即可進行截面切割,也可進行平面研磨;2. 加工效率更高,截面約500μm/h;3. 程序控制間歇式加工;4. 通過制冷功能可以對受熱易損…
日立高新離子研磨裝置IM4000
主要特點:
1. 即可進行截面切割,也可進行平面研磨;
2. 加工效率更高,截面約500μm/h;
3. 程序控制間歇式加工;
4. 通過制冷功能可以對受熱易損傷的樣品進行加工
應用領域:
1. LED、PCB等半導體行業;
2. 頁巖氣;
3. 高分子材料
刀片切割方式制樣 IM4000 plus離子研磨截面切割
樣品:彩色打印用紙截面(多層結構)
放大倍率:1萬倍
沒使用制冷研磨 使用制冷研磨
樣品:鋰電池隔膜截面
放大倍率:2萬倍
機械拋光處理后 IM4000 plus離子研磨平面處理
樣品:金線焊接處截面
放大倍率:1萬倍
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