碳納米管納米CVD系統

  產品簡介：
    nanoCVD-8N型碳納米管CVD系統是英國MOORFIELD公司與英國曼徹斯特大學“諾貝爾獎”石墨烯團隊共同開發的一款專門生長高質量單壁碳納米管的科研型桌面式CVD系統，該系統采用的“冷壁技術”生長單壁碳納米管，典型的直徑為0.7-1.2nm，具有生長速度快，質量高，重復性好，耗量少，無污染的優點，有多篇Science 與Nature的文章里都采用了該設備，是制備高質量碳納米管科研用戶的理想選擇。

  產品特性：

   ? 采用的“冷壁技術”與*的加熱臺設計實現單壁碳納米管高重復性生長。

   ? 超緊湊的桌面式設計 

   ? 裝樣簡單：采用滑竿推拉門與加熱臺聯動組件

   ? 大樣片尺寸：20 mm×40 mm；

   ? 加熱單元：低熱載，高加熱率，溫度1100℃，熱電偶溫度實時監測溫度；

   ? 全自動壓力控制；

   ? 三路氣體配帶質量流量控制裝置（甲烷，氬氣，氫氣）；

   ? 生產時間短：一次完整生長流程時間小于30分鐘；

   ? 觸摸式液晶觸摸屏界面可自設和存儲多達30個生長流程，生長條件精確控制，可重復生成制備單壁碳納米管；

   ? 聯機數據采集，生長流程全自動控制；

   ? 系統維護便捷方便，壓力、氣體流量和溫度參數連鎖確保使用安全。

   生產體系：

   ? 基底：SiO2/Si, Al2O3/Si and Si3N4

   ? 催化劑：Fe, Co and Ni, films or dispersed nanoparticles

   ? 原料：Ethanol, CH4, C2H4 ａnd C2H2

采用不同的合成工藝統，不同的材料，基底與催化劑，nanoCVD-8N可合成的碳納米管主要有三種形式：

  ?  Random: Multiply interconnected SWNTs

  ?  Aligned: Paralell SWNTs

  ? ‘Forests’: Vertically stacked SWNTs

   實例：