管式爐設計用于材料沉積之用，廣泛適用高、中、低溫CVD工藝，例如：碳納米管的研制、晶體硅基板鍍膜、納米

氧化鋅結構的可控生長等等；也可適用于金屬材料的擴展焊接以及真空或保護氣氛下熱處理。

產品特點：

LGO加熱元件提供了高效的熱傳導作用，保證爐內溫度的均 勻性和快速升降溫。
耐用節能型加熱元件，無需維護。
*的爐腔設計可以有效降低爐外表面溫度。
熱反射元件形成高效中空保溫層。
緊湊型爐體外表面涂有耐熱涂層。
翻轉式結構易于安裝工作管。
耐用型PlatinelRII熱電偶帶有10英尺長的導線和插頭。
工作管直徑：25.4-76.2mm（不同型號不同）。
加熱長度：609.6mm（不同型號不同）。
數字型多段單程序三區溫度控制器：三區或單區可設定單個程序；微處理控制為基礎、帶自

我調節功能的PID控制器保證的溫度處理，防止過熱；LED顯示屏同時顯示設定和實際溫度；溫控精確度：±0.3%。
溫度范圍：100-1200℃。
可選備供氣系統，可以同時通入H2、N2、NH3、CH4和C2H2五種氣體，五路氣均帶有316氣體調壓器(選件)。