臺式三維原子層沉積系統-ALD是通過將氣相前驅體脈沖交替的通入反應器，化學吸附在沉積襯底上并反應形成沉積膜的一種方法，是一種可以將物質以單原子膜形式逐層的鍍在襯底表面的方法。因此，它是一種真正的“納米”技術，以精確控制方式實現納米級的超薄薄膜沉積。由于ALD利用的是飽和化學吸附的特性，因此可以確保對大面積、多空、管狀、粉末或其他復雜形狀基體的高保形的均勻沉積。

臺式三維原子層沉積系統-ALD

應用領域

半導體 燃料電池

光子學 常規電池

MEMS 太陽能電池

催化劑 生物傳感器

高能物理 工業涂覆加工

臺式三維原子層沉積系統-ALD系統特點

* 300℃ 鋁合金熱壁，對流式溫度控制

* 175℃溫控150ml前驅體瓶，200℃溫控輸運支管

* 可容納多片4，6，8英寸樣品同時沉積

* 可容納1.25英寸/32mm厚度的基體

* 標準CF-40接口

* 可安裝原位測量或粉末沉積模塊等選件

* 等離子體輔助ALD插件

* 多種配件可供選擇

 Quantum 量子科學儀器貿易（北京）有限公司(暨Quantum Design中國子公司)是世界的科學儀器制造商——美國 Quantum Design 公司在*設立的諸多子公司之一。美國 Quantum Design 公司生產的 SQUID 磁學測量系統 (MPMS) 和材料綜合物理性質測量系統 (PPMS) 已經成為*的*測量平臺，廣泛的分布于世界上幾乎所有材料、物理、化學、納米等研究領域*的實驗室。同時美國 Quantum Design 公司還利用自己遍布世界的專業營銷和售后隊伍打造一個代理分銷網絡，與世界其他*的設備制造商合作，為其提供遍布的專業產品銷售和售后服務網絡，2007 年美國 Quantum Design 公司并購了歐洲較大的儀器分銷商德國 LOT 公司，使得 Quantum Design 公司代理分銷和售后網絡變得更加完整和強大。