目前國內高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐，原理為加熱絲或硅碳棒對爐體加熱，加熱與降溫速度慢，效率低下，也無法實現溫度的測量，加熱區域也存在不均勻的現象，華測儀器通過多年研究開發了一種可實現，高反射率的拋物面與高質量的加熱源相配置，在高速加熱高速冷卻時，具有良好的溫度分布；可實現寬域均熱區，高速加熱、高速冷卻；用石英管保護加熱式樣，無氣氛污染。這就是高溫管式快速爐

產品介紹：

 目前國內高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐，原

理為加熱絲或硅碳棒對爐體加熱，加熱與降溫

速度慢，效率低下，也無法實現溫度的

測量，加熱區域也存在不均勻的現象，華測儀

器通過多年研究開發了一種可實現，高

反射率的拋物面與高質量的加熱源相配置，在

高速加熱高速冷卻時，具有良好的溫度分布。

可實現寬域均熱區，高速加熱、高速冷卻 ，用

石英管保護加熱式樣，無氣氛污染。可在高真

空，高出純度氣體中加熱 。設備可組成均熱高

速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐。

    高溫管式快速爐提高了加熱試驗能力。 同

電阻爐和其他爐相比，紅外線反射爐節省了升

溫時間和保持時間及自然冷卻到室溫所需時

間，再試驗中也可改寫設定溫度值。從各方面

講，都節省時間并提高實驗速度。 

    高溫管式快速爐同高頻爐相比，不需特殊的

安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣

安裝簡單，有冷卻系統安全可靠。以提高試驗

人員的工作效率，實現全新的溫度控制操作！

主要用途：

     主要用于陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、

機械、耐火材料、特種材料、建材、高校、科

研院所、工礦企業做粉末焙燒、陶瓷燒結、高

溫實驗、材料處理、質高校、科研院所、工礦

企業做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗、

真空退火等。

                   本試驗爐具有：1000度、1200

度、1400度各種型號。也可根據用戶需求訂

制！

反射鏡是具有曲率,采用5軸加工系統加

工,以提高反射率。反射鏡有兩種類型，一種是

橢圓形的，另一種是拋物線型的，它們適合各

種材料的在溫度制控的條件下的測試。

設備優勢：

高速加熱與冷卻方式：高能量的紅外燈和鍍金

反射方式允許高速加熱到高溫。同時爐體可配

置水冷系統，增設氣體冷卻裝置，可實現快速

冷卻。

溫度控制：過紅外鍍金聚焦爐和溫度控

制器的組合使用，可以精確控制樣品的溫度(遠

比普通加溫方式)。此外，冷卻速度和保持在任

何溫度下可提供。

不同環境下的加熱與冷卻：加熱/冷卻可用真

空、氣氛環境、低溫（高純度惰性氣體 靜態或

流動），操作簡單，使用石英玻璃制成。紅外

線 可傳送到加熱/冷卻室。

  應用范圍：

1. 電子材料

◆半導體用硅化合化的PRA（加熱后急速冷卻）

◆熱源薄膜形成

◆激活離子注入后

◆硅化物的形成

2. 陶瓷與無機材料

◆ 陶瓷基板退火爐

◆玻璃基板退火爐。

◆陶瓷張力、撓曲試驗退火爐。

3. 鋼鐵和金屬材料

◆ 薄鋼板加熱過程的數值模擬。

◆ 爐焊接模擬

◆ 高真空熱處理（1000°C以下）

◆ 大氣氣體熔化過程

◆ 壓力下耐火鋼和合金的熱循環試驗爐

4. 復合材料

◆ 耐熱性評價爐

◆ 無機復合材料熱循環試驗爐

5. 其它

◆ 高溫拉伸壓縮試驗爐。

◆ 分段分區控制爐

◆ 溫度梯度爐

◆ 爐氣分析

◆ 超導陶瓷退火爐