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太陽(yáng)能硅板檢測(cè)儀DJM-200C

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上海蔡康光學(xué)儀器有限公司
2024-05-29 17:30:05
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【簡(jiǎn)單介紹】

晶圓檢測(cè)儀，多晶硅缺陷分析儀，太陽(yáng)能硅板檢測(cè)儀，太陽(yáng)能光伏單晶硅片缺陷分析?蔡康晶圓檢測(cè)儀，多晶硅缺陷分析儀，太陽(yáng)能硅板檢測(cè)儀DJM-200C概述和硅片缺陷檢測(cè)方法和應(yīng)用范圍：

【詳細(xì)說明】

蔡康晶圓硅片缺陷觀測(cè)儀（DJM-200C），于對(duì)硅片的缺陷進(jìn)行觀察，效果非常明顯，包括肉眼無法觀測(cè)的位錯(cuò)、層錯(cuò)、劃痕、崩邊等。

光伏硅片質(zhì)量檢測(cè)中，有很多項(xiàng)目，比如：破片、缺角、孔洞和翹曲等等。為什么會(huì)有這些檢測(cè)項(xiàng)目？有些項(xiàng)目很容易理解，比如：破片、缺角等不僅會(huì)影響賣相，還會(huì)造成后續(xù)電池片生產(chǎn)的問題，甚至影響轉(zhuǎn)換效率。但孔洞，尤其是很小很小的孔洞，似乎沒什么大不了。其實(shí)不然，新的研究表明，小小的孔會(huì)造成大大的問題。就好像千里之堤，毀于蟻穴。

晶圓檢測(cè)儀，多晶硅缺陷分析儀，太陽(yáng)能硅板檢測(cè)儀，太陽(yáng)能光伏單晶硅片缺陷分析

一：蔡康晶圓檢測(cè)儀，多晶硅缺陷分析儀，太陽(yáng)能硅板檢測(cè)儀DJM-200C概述和硅片缺陷檢測(cè)方法和應(yīng)用范圍：

（一）光伏硅片質(zhì)量檢測(cè)中，有很多項(xiàng)目，比如：破片、缺角、孔洞和翹曲等等。為什么會(huì)有這些檢測(cè)項(xiàng)目？有些項(xiàng)目很容易理解，比如：破片、缺角等不僅會(huì)影響賣相，還會(huì)造成后續(xù)電池片生產(chǎn)的問題，甚至影響轉(zhuǎn)換效率。但孔洞，尤其是很小很小的孔洞，似乎沒什么大不了。其實(shí)不然，的研究表明，小小的孔會(huì)造成大大的問題。就好像千里之堤，毀于蟻穴。
　　1.孔洞：大量存在，3～10um，人眼不易發(fā)現(xiàn)。必須用背光源。
　　孔洞的危害：經(jīng)研究發(fā)現(xiàn)***，硅晶片上孔洞會(huì)造成加工成電池片的短路，降低電池片的轉(zhuǎn)換效率；如果因?yàn)楣杵系目锥葱纬傻亩搪穳K剛好落在柵線上，就會(huì)造成大面積的短路，加大電池片的漏電流，影響轉(zhuǎn)換效率。所以必須檢測(cè)孔洞，一般人眼能分辨0.3mm以上的孔洞，0.003～0.01mm的孔洞只能借助與光學(xué)的檢測(cè)手段來實(shí)現(xiàn)。檢測(cè)時(shí)需采用高亮度的白色背光源，穿透力強(qiáng)的光經(jīng)過孔洞后，部分頻率的分量會(huì)使相機(jī)感光，形成藍(lán)綠色的成像。相機(jī)的像素分辨率需要做得很高，比如一個(gè)像素等于0.005mm，這樣有機(jī)會(huì)捕捉到3um～10um孔透過的光，并由軟件識(shí)別。
　　2.硅片翹曲或彎曲：不能忽視。硅片翹曲不僅使得做成電池片后尺寸不合乎要求，而且還會(huì)造成斷柵。
　　研究表明：因?yàn)楣杵N曲，做成電池片后，通過EL檢測(cè)，發(fā)現(xiàn)里面有絲狀裂紋或花斑，但做成模組后，花斑情況有改善。分析表明，因?yàn)殡姵仄N曲（根源上是硅片翹曲），在絲印時(shí)會(huì)造成印刷不均勻，形成斷柵。
　　硅片的翹曲需要采用3D的檢測(cè)方法，具體表征硅片翹曲的指標(biāo)有TTV、MTV等等。檢測(cè)的方法可以采用將結(jié)構(gòu)光（線激光）投射到硅片上，用相機(jī)進(jìn)行拍照；通過軟件分析光線成像的幾何特征，可以計(jì)算出TTV、MTV等指標(biāo)，跟標(biāo)準(zhǔn)值進(jìn)行比對(duì)，可以得出硅片翹曲是否在可以接受的范圍。
　　以上兩點(diǎn)，是的研究發(fā)現(xiàn)。如果檢測(cè)不到位，“后果很嚴(yán)重"。電池片廠家在來料檢測(cè)上，不可不注意。
　　產(chǎn)品介紹：
　　蔡康晶圓硅片缺陷觀測(cè)儀（DJM-200C），于對(duì)硅片的缺陷進(jìn)行觀察，效果非常明顯，包括肉眼無法觀測(cè)的位錯(cuò)、層錯(cuò)、劃痕、崩邊等。
　　實(shí)時(shí)對(duì)圖像進(jìn)行分析、測(cè)量和統(tǒng)計(jì)，提高傳統(tǒng)光學(xué)儀器的使用內(nèi)涵。配合投影儀和計(jì)算機(jī)等顯示、存儲(chǔ)設(shè)備，能更好的觀測(cè)和保存研究結(jié)果；
　　硅片缺陷觀測(cè)儀-產(chǎn)品特點(diǎn)
　　■適用于對(duì)硅片的缺陷觀察效果，非常明顯，包括肉眼無法觀測(cè)的位錯(cuò)、層錯(cuò)、劃痕、崩邊等；
　　■使硅片缺陷觀察工作簡(jiǎn)單化，準(zhǔn)確化，同時(shí)極大程度降低此項(xiàng)工作強(qiáng)度；
　　■實(shí)時(shí)對(duì)圖像進(jìn)行分析、測(cè)量和統(tǒng)計(jì)，提高傳統(tǒng)光學(xué)儀器的使用內(nèi)涵。配合投影儀和計(jì)算機(jī)等顯示、存儲(chǔ)設(shè)備，能更好的觀測(cè)和保存研究結(jié)果；
　　■使用　數(shù)字CCD攝像機(jī)　感光芯片，具有體積小，技術(shù)，像素較高，成像清晰、線條細(xì)膩、色彩豐富；
　　■傳輸接口為　USB2.0高速接口，軟件模塊化設(shè)計(jì)；
　　■有效分辨率為　1000萬像素；
　　■所配軟件能兼容　windows　7和　windows　XP　操作系統(tǒng)。

蔡康晶圓缺陷分析儀DJM-200C,太陽(yáng)能單晶硅片缺陷分析

（三）蔡康太陽(yáng)能光伏單晶硅片缺陷分析儀技術(shù)介紹和儀器組成

   一、大平臺(tái)太陽(yáng)能硅片缺陷分析金相顯微鏡儀器的主要用途和特點(diǎn)
       DJM-200C系列反射明暗場(chǎng)大平臺(tái)太陽(yáng)能硅片缺陷分析金相顯微鏡可進(jìn)行明視場(chǎng)、暗視場(chǎng)、簡(jiǎn)易偏光觀察。是半導(dǎo)體檢驗(yàn)、電路封狀、電路基板、材料等行業(yè)理想儀器。 DMM-990大平臺(tái)晶圓缺陷分析金相顯微鏡具有圖像清晰、襯度好，造型美觀，操作方便等特點(diǎn)，是材料學(xué)、金屬學(xué)、礦物學(xué)、精密工程學(xué)、電子學(xué)等研究的理想儀器。適用于學(xué)校、科研、工廠等部門使用。 DMM-990高級(jí)正置金相顯微鏡，選用優(yōu)質(zhì)的光學(xué)元件，配有超大視場(chǎng)目鏡、落射照明器、平場(chǎng)長(zhǎng)工作距離明暗場(chǎng)物鏡，是針對(duì)半導(dǎo)體晶圓檢測(cè)、太陽(yáng)能硅片制造業(yè)、電子信息產(chǎn)業(yè)、治金工業(yè)開發(fā)的，作為高級(jí)工業(yè)金相顯微鏡使用?？蛇M(jìn)行明暗場(chǎng)觀察、落射偏光、廣泛用于工廠、研究機(jī)構(gòu)、高等院校對(duì)太陽(yáng)能電池硅片、半導(dǎo)體晶圓檢測(cè)、電路基板、FPD、精密模具的檢測(cè)分析。
性能特點(diǎn)
▲      配置大視野目鏡和長(zhǎng)距平場(chǎng)消色差物鏡(無蓋玻片)，視場(chǎng)大而清晰。
▲      粗微動(dòng)同軸調(diào)焦機(jī)構(gòu)，粗動(dòng)松緊可調(diào)，帶限位鎖緊裝置，微動(dòng)格值:0.8μm。
▲      配置大移動(dòng)范圍栽物臺(tái)，移動(dòng)范圍：8英寸*8英寸（204mm*204mm)。
▲      三目鏡筒,可自由切換正常觀察與偏光觀察，明視場(chǎng)/，可進(jìn)行99%透光攝影。
▲      6V30W鹵素?zé)?，亮度可調(diào)。
   DMM-990C電腦型三目正置大平臺(tái)單晶硅缺陷分析儀金相顯微鏡是將精銳的光學(xué)顯微鏡技術(shù)、的光電轉(zhuǎn)換技術(shù)、的計(jì)算機(jī)成像技術(shù)地結(jié)合在一起而開發(fā)研制成功的一項(xiàng)高科技產(chǎn)品。既可人工觀察金相圖像,又可以在數(shù)碼相機(jī)顯示器上很方便地適時(shí)觀察金相圖像，并可隨時(shí)捕捉記錄金相圖片,從而對(duì)金相圖譜進(jìn)行分析,評(píng)級(jí)等,還可以保存或打印出高像素金相照片。

太陽(yáng)能光伏單晶硅片缺陷分析儀DJM-200C

（二）蔡康硅片缺陷分析儀DJM-200C性能特點(diǎn)和系統(tǒng)組成：

1. 蔡康單晶硅缺陷分析儀DJM-200C利用工業(yè)級(jí)彩色高速攝象器進(jìn)行圖像或者視頻采集，高倍蔡康光學(xué)單晶硅片顯微鏡放大成像，圖像快速顯示于計(jì)算機(jī)，直接實(shí)時(shí)觀察熔深焊接形貌，利用專用軟件進(jìn)行熔深測(cè)量處理，形態(tài)統(tǒng)計(jì)分析，并打印出熔深分析報(bào)告。

型號(hào)	技術(shù)參數(shù)
目鏡	WF10X(Φ18mm)
物鏡	長(zhǎng)距平場(chǎng)消色差物鏡（明視場(chǎng)）(無蓋玻片)PL 5X/0.12 WD:18.3mm
	長(zhǎng)距平場(chǎng)消色差物鏡（明視場(chǎng)/暗視場(chǎng)）(無蓋玻片)PL L10X/0.25 WD:8.9mm
	長(zhǎng)距平場(chǎng)消色差物鏡（明視場(chǎng)/暗視場(chǎng)）(無蓋玻片)PL L20X/0.40 WD:8.7mm
	長(zhǎng)距平場(chǎng)消色差物鏡（明視場(chǎng)/暗視場(chǎng)）(無蓋玻片)PL L40X/0.60 WD:0.26mm
目鏡筒	三目鏡,傾斜30?
落射照明系統(tǒng)	6V 30W鹵素?zé)?/span>,亮度可調(diào)
落射照明系統(tǒng)	落射照明器帶視場(chǎng)光欄、孔徑光欄、起偏振片,(黃,藍(lán),綠)濾色片和磨砂玻璃
調(diào)焦機(jī)構(gòu)	載物臺(tái)升降，粗微動(dòng)同軸調(diào)焦機(jī)構(gòu)，粗動(dòng)松緊可調(diào)，帶限位鎖緊裝置，微動(dòng)格值:0.8μm
轉(zhuǎn)換器	四孔(外向式滾珠內(nèi)定位)
載物臺(tái)	三層機(jī)械移動(dòng)式(尺寸:280mmX270mm,移動(dòng)范圍:204mmX204mm)

2、系統(tǒng)組成：

1.硅片缺陷分析儀DJM-200

2.電腦適配鏡

3.數(shù)字彩色攝像機(jī)
4.單晶硅片分析測(cè)量系統(tǒng)
5.計(jì)算機(jī)（選購(gòu)）


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上海蔡康光學(xué)儀器有限公司

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