1200℃雙管滑動式單、多溫區CVD系統 參考價：面議
產品用途：此款CVD系統是專門為在金屬箔上生長薄膜而設計，特別是應用在新一代能源關于柔性金屬箔電極方面的研究，通過滑動爐實現快速加熱和冷卻。
1200℃滑動式單、雙、三溫區CVD系統 參考價：面議
產品用途：此款CVD系統適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結真空淬火退火，快速降溫等工藝實...
1200℃雙溫區CVD系統 參考價：面議
產品用途：此款CVD生長系統適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結等實驗。
1200℃集成型自動小型PECVD系統 參考價：面議
PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。集成型PECVD系...
1200度小型PECVD系統 參考價：面議
PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。集成型PECVD系...
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