牛津儀器 OptistatDN-V低溫恒溫器 參考價：面議
牛津儀器 OptistatDN-V低溫恒溫器配備77 K 液氮腔。樣品處于真空中。 寬樣品溫度區間：77 K至500 K 降溫至77 K大約只要20分鐘時間 加...
牛津儀器 OptistatDN低溫恒溫器 參考價：面議
牛津儀器 OptistatDN低溫恒溫器配備77 K 液氮腔。樣品處于靜態交換氣中，由頂部裝載至恒溫器中。 寬樣品溫度區間：77 K至500 K 降溫至77 K...
牛津儀器 MicrostatHires低溫恒溫器 參考價：面議
牛津儀器 MicrostatHires低溫恒溫器采用連續流制冷。樣品處于真空中，適用于高分辨顯微光學研究。 寬的溫度區間：3.4 K - 500 K。使用旋轉泵...
牛津儀器 MicrostatHe-R低溫恒溫器 參考價：面議
牛津儀器 MicrostatHe-R低溫恒溫器采用液氦連續流制冷，至2.2 K，具有特殊矩形尾罩，樣品處于真空中，適用于光學顯微學。 寬的溫度區間：3.2 K ...
牛津儀器 MicrostatHe低溫恒溫器 參考價：面議
采用液氦連續流制冷。樣品處于真空中冷卻，適用于顯微光學研究。 寬泛的溫度區間：3.2 K - 500 K。使用旋轉泵（不作標準配件提供）溫度可低至2.2 K 降...
牛津儀器 OptistatCF-V低溫恒溫器 參考價：面議
牛津儀器 OptistatCF-V低溫恒溫器是為滿足苛刻的光譜學應用而設計的。該系列低溫恒溫器具有出色的光學和電學通路，寬廣的溫度范圍，緊湊的設計，以及出色的低...
牛津儀器 OptistatCF低溫恒溫器 參考價：面議
牛津儀器 OptistatCF采用液氦連續流制冷。樣品處于靜態交換氣中，從恒溫器頂部進行裝載。 寬樣品溫度區間：3.4 K - 300 K。可通過高溫窗口選件擴...
牛津儀器 OptistatDry TLEX低溫恒溫器 參考價：面議
牛津儀器 OptistatDry TLEX低溫恒溫器是一款用于光譜學測量的低溫恒溫器，由配有光學通路的緊湊型恒溫器和閉循環制冷機組成，采用頂部換樣設計。無需液體...
牛津儀器 OptistatDry BLV低溫恒溫器 參考價：面議
牛津儀器 OptistatDry BLV低溫恒溫器是一款用于光譜學研究的低溫恒溫器，由配有光學通路的緊湊型恒溫器和閉循環制冷機組成，采用底部換樣設計。無需液體制...
牛津儀器 HelioxVT 參考價：面議
牛津儀器 HelioxVT，該真空樣品3He制冷機可獲得低于300 mK的溫度，并能保持40hrs以上；在350 mK具備50 W的制冷功率，并能保持6hrs以...
牛津儀器 HelioxVL 參考價：面議
牛津儀器 HelioxVL，該氦3制冷機基于結合了特殊設計的1K冷凝器和氦3池的先進的吸附泵技術。 快速換樣 操作簡單 設計緊湊 可與磁性樣品環境結合使用 對于...
牛津儀器 KelvinoxJT稀釋制冷機 參考價：面議
牛津儀器 KelvinoxJT稀釋制冷機是一款小型量油計型稀釋制冷機，具有Joule-Thomson冷凝單元。因為KelvinoxJT不需要1 K冷池，這意味著...
牛津儀器 KelvinoxTLM稀釋制冷機插件 參考價：面議
牛津儀器 KelvinoxTLM稀釋制冷機插件，可以直接從頂部將樣品插入低溫腔的稀釋制冷插桿 頂部取樣式插桿，樣品通過真空閘直接進入3He/4He混合腔，確保樣...
牛津儀器 Kelvinox400HA稀釋制冷機插件 參考價：面議
牛津儀器 Kelvinox400HA稀釋制冷機插件非常適合需要高冷卻功率和高實驗通路的應用，如量子計算。 制冷功率可達350W，可供如微波腔損耗實驗等高熱散的實...
牛津儀器 KelvinoxMX稀釋制冷機插件 參考價：面議
牛津儀器 KelvinoxMX稀釋制冷機插件是為無縫集成到磁場和低溫環境而設計。采取了多用途的可替換式二級實驗插桿的模塊化設計，提供多種配置方案來應對多樣的實驗...
牛津儀器 TritonXL無液氦稀釋制冷機 參考價：面議
牛津儀器 TritonXL無液氦稀釋制冷機是擁有非常高制冷功率的大型無液氦稀釋制冷機，專為滿足量子技術和凝聚態物理領域非常嚴苛的應用要求而設計。低于5 mK的溫...
牛津儀器 Proteox無液氦稀釋制冷機 參考價：面議
牛津儀器 Proteox無液氦稀釋制冷機特點 多用戶多實驗集成一體 直流引線、高頻同軸線、低溫電子器件和樣品都可*集成到多個二級插件上，方便根據不同的使用需求裝...
牛津儀器 Proteox5mK稀釋制冷機 參考價：面議
牛津儀器 Proteox5mK稀釋制冷機是一臺商用連續工作稀釋制冷機，可提供小于5mK的極低溫環境，@20mK制冷功率大于25 W。 牛津儀器 Proteox5...
牛津儀器 OpAL原子層沉積（ALD）系統 參考價：面議
原子層沉積 (ALD) 是一種真正的納米技術, 可以準確可靠地沉積僅幾個納米厚的超薄薄膜。等離子體可以實現出色的表面預處理, 控制薄膜性質以及作為種類廣泛的沉積...
牛津儀器 FlexAL原子層沉積（ALD）系統 參考價：面議
原子層沉積 (ALD) 是一種真正的納米技術, 可以準確可靠地沉積僅幾個納米厚的超薄薄膜。等離子體可以實現出色的表面預處理, 控制薄膜性質以及作為種類廣泛的沉積...
牛津儀器 Ionfab 300 IBD離子束沉積 參考價：面議
牛津儀器 Ionfab 300 IBD離子束沉積能夠生產具有高質量，致密和表面光滑的沉積薄膜。離子束技術提供了一種多樣的刻蝕和沉積的方法，并可在同一設備上實現，...
牛津儀器 Ionfab 300 IBE離子束刻蝕 參考價：面議
牛津儀器 Ionfab 300 IBE離子束刻蝕的靈活性、均勻性俱佳且應用范圍廣。我們的設備具有靈活的硬件選項，包括直開式、單襯底傳送模式和盒式對盒式模式。系統...
牛津儀器 PlasmaPro 80 ICPCVD 參考價：面議
牛津儀器 PlasmaPro 80 ICPCVD是一種結構緊湊且使用方便的小型直開式系統，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能夠確保工...
牛津儀器 PlasmaPro 100 ICPCVD 參考價：面議
牛津儀器 PlasmaPro 100 ICPCVD特點 更好的均勻性、高產量以及高精度的工藝 高質量薄膜 電極的適用溫度范圍寬 兼容200mm以下所有尺寸的晶圓...
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