聚光科技E5000電弧直讀發射光譜儀具有全譜多元素同時分析、分析速度快、分析精準、穩定性好等優點，分析性能達到了*水平。作為*粉末樣品元素分析的臺式全譜直讀發射光譜儀，E5000發射光譜儀擁有創新的高功率數控電弧光源、全自動激光對準的光源裝置、穩定可靠的帕型-龍格全譜分光系統以及陣列CCD全譜測量技術。

聚光科技E5000電弧直讀發射光譜儀
 

　　聚光科技E5000電弧直讀發射光譜儀具有全譜多元素同時分析、分析速度快、分析精準、穩定性好等優點，分析性能達到了水平。作為*粉末樣品元素分析的臺式全譜直讀發射光譜儀，E5000發射光譜儀擁有創新的高功率數控電弧光源、全自動激光對準的光源裝置、穩定可靠的帕型-龍格全譜分光系統以及陣列CCD全譜測量技術，同時，E5000發射光譜儀結合時序分析、光譜自動校正等先進技術，采用固體樣品直接進樣的方法，全面解決了傳統技術分析繁瑣、效率低下、準確性差等問題，是光譜元素分析領域的重大突破。
 

產品結構設計
 

　　電弧發射光譜技術與全譜直讀光譜技術結合，新一代固體粉末分析技術；
 

　　Paschen-Runge(帕型-龍格)全譜光學系統，能測定需要分析的所有常規元素；
 

　　緊湊的小型臺式設計，確保穩定可靠、易用便捷；
 

　　防溢出CCD高速數采系統，信噪比高、動態范圍大；
 

　　高功率數控可編程光源，電流、電壓、頻率可控，提供更優的分析方法；
 

　　多重連鎖和監控，確保操作安全可靠；
 

　　全自動電極激光對準系統；
 

　　粉末樣品直接進樣，方便迅速；
 

　　一鍵激發，立刻獲得分析結果；
 

　　內置工作曲線，客戶無需手動建線，切實提高工作效率；
 

　　軟件開放所有高級功能，為客戶提供*的方法開發平臺。
 

　　全譜測量技術
 

　　全譜平臺擁有豐富的譜線信息，更易于元素擴展與方法開發；
 

　　基于全譜測量的數據，能夠正確區分背景和譜線，有效提高測量精度；
 

　　- 方便查看譜線及干擾情況
 

　　- 支持斜背景、左右背景等不同的扣除方式
 

　　強大的自動譜線去干擾算法；
 

　　- 通過算法扣除干擾譜線獲得干凈的待分析譜線
 

　　- 基于全譜測量數據的多峰擬合技術可將譜線*分開，有效消除譜線的干擾
 

　　根據元素的含量范圍選擇不同的分析譜線，大含量范圍的測量更準確；
 

　　- 多譜線結合，擴展分析范圍的同時，有效保證分析精度；
 

　　- 避免靈敏線飽和，不需要消釋樣品，取得更大的分析范圍；
 

　　CCD高速數采系統
 

　　防溢出線陣CCD；
 

　　采用動態積分，有效擴展CCD的動態范圍；
 

　　Paschen-Runge(帕型-龍格)全譜光學系統
 

　　恒溫型全固定光學系統；
 

　　全反射式光路；
 

　　光室結構緊湊；
 

　　一體式固定；
 

　　光學器件少，性能穩定；
 

　　基于CCD的全譜采集和分析；
 

　　全新一代電弧數控光源
 

　　數控光源體積小、效率高；
 

　　基于數控可編程技術，光源的電流、電壓、頻率可調節；
 

　　分析不同含量的元素，選擇較佳的激發參數，降低元素分析的檢出線，改善元素分析的準確度；
 

　　可設置及讀取不同檢測階段的數據；
 

　　一鍵激發及全自動對準電極
 

　　樣品裝載激發一氣呵成，方便快捷；
 

　　多元素同時分析，直接得到結果；
 

　　設計精良的電極挾持旋鈕；
 

　　紅外激光對準、先進的電極激光自動對準技術；
 

　　水冷電極夾提高檢測穩定性；
 

　　多重連鎖和安全保護
 

　　可靠的水冷系統，分別對電弧光源和激發電極散熱；
 

　　實時監控儀器的運行狀態，所有的連鎖狀態如冷卻水、排風、炬室門等都通過界面和指示燈等多種形式直接提醒；
 

　　界面上有關鍵溫度的顯示，*時間查看儀器的運行情況；
 

　　排風監控，消除廢氣影響；
 

　　特殊的風道設計提高穩定性；
 

強大的分析軟件
 

　　便捷易用的分析軟件；
 

　　- 操作直觀、便捷、層次化的軟件界面，非專業人員也能方便操作
 

　　- 簡單的方法開發過程，各種檢測條件都可調節
 

　　強大的多元素分析平臺；
 

　　- 便捷的全譜查看
 

　　- 多元素分析及多譜線選擇
 

　　- 一鍵激發，直接在軟件上得到分析結果
 

　　- 豐富的方法庫有利于方法的傳承、學習和維護
 

　　可分析元素及多譜線選擇
 

　　全面智能的軟件算法；
 

　　- 內置工作曲線，完善的時序分析，能夠實現定性、定量分析
 

　　- 豐富的處理技術，支持內標法、基底扣除、干擾元素校正等分析方法
 

　　- 功能強大的高級處理功能，為客戶帶來更全面、更精確的分析體驗
 

　　 智能漂移校正技術。