SaphirVibro振動拋光機為得到無殘留變形的制備表面而設計,是用于進一步材料表征,如EBSD(背散射電子衍射),AFM(原子力顯微鏡)分析和納米壓痕或顯微硬度測試的理想前序設備
Saphir Vibro 振動拋光機為得到無殘留變形的制備表面而設計,是用于進一步材料表征,如 EBSD(背散射電子衍射),AFM (原子力顯微鏡)分析和納米壓痕或顯微硬度測試的理想前序設備。
可快速更換的帶磁性系統的拋光池
從 60-120 Hz 的自動頻率控制
“Surface-Guard” 功能降低試樣磨料結晶和試樣表面腐蝕的機率
預先安裝好的制備方案和耗材清單
低工作噪音和吸振式結構設計
軟閉合式防護罩和排氣接口
可存儲多達 200 個制備程序
拋光池內徑 | ? 308 mm (拋光布直徑 ?300 mm or ?305 mm) |
振動頻率 | 60 - 120 Hz |
接口 | USB, Ethernet |
連接電源 | 0.25 kVA |
運行功率 | 135 VA |
寬 x 高 x 深 | 510 x 300 x 590 mm |
重量 | ~ 45 kg |
Saphir Vibro.pdf
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