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金相顯微鏡MX8R

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支持300mm晶圓及17英寸液晶面板的檢查,含4、6、8、12英寸多種轉盤,可適用不同尺寸的晶圓檢查。人機工程學設計全面提升,為用戶提供更加舒適、靈活、快捷的操作體驗。

詳細信息 在線詢價

規格參數

technical parameter
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光學系統 無限遠色差校正光學系統
觀察方式

明場/暗場/偏光/DIC

觀察筒 無限遠鉸鏈三通觀察頭,5°-35°傾角可調,倒像,瞳距調節50-76mm,三檔式分光比:50:50或100:0或0:100
無限遠鉸鏈三通觀察筒,30°傾斜,正像,瞳距調節:50-76mm, 分光比100:0或0:100
無限遠鉸鏈三通觀察頭,30°傾斜,倒像,瞳距調節范圍50-76mm,三檔式分光比,0∶100或20∶80或100 :0
目鏡 高眼點大視野平場目鏡PL10X/25mm,視度可調,可帶單刻度十字分劃板
高眼點大視野平場目鏡PL10X/26.5mm,視度可調,可帶單刻度十字分劃板
物鏡 無限遠明暗場半復消金相DIC物鏡5X10X 20X 50X 100X
無限遠長工作距明暗場半復消金相DIC物鏡20X
無限遠長工作距明暗場半復消金相物鏡50X100X
無限遠明場半復消金相DIC物鏡5X10X 20x 5OX100X
轉換器 明暗場五孔/六孔轉換器,帶DIC插槽
明場六孔/七孔轉換器,帶DIC插槽
調焦機構 反射式機架,前置低手位粗微同軸調焦機構。粗調行程33mm,微調精度0.001mm.帶有防止下滑的調節松緊裝置和隨機上限位裝置.內置100-240V寬電壓系統.帶光亮度設定按鈕與復位按扭
載物臺 右手位8英寸三層機械移動平臺,低手位X、Y方向同軸調節;平臺面積525mmX330mm,移動范圍∶210mmX210mm ;帶離合器手柄,可用于全行程范圍內快速移動;反射配金屬平臺,透反配玻璃平臺
右手位6英寸三層機械移動平臺,低手位X、Y方向同軸調節;平臺面積445mmX240mm,移動范圍:158mmX158mm ;帶離合器手柄,可用于全行程范圍內快速移動;反射配金屬平臺,透反配玻璃平臺
照明系統 明暗場反射照明器,帶可變孔徑光闌,視場光闌,中心均可調;帶明暗場照明切換裝置﹔帶濾色片插槽與偏光裝置插槽
攝影攝像 0.5X/0.65X/1X攝像接筒,C型接口,可調焦
其他 起偏鏡插板,固定式檢偏鏡插板,360°旋轉式檢偏鏡插板﹔反射用干涉濾色片組;高精度測微尺;DIC微分干涉組件

更多說明

Product details
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支持300mm晶圓及17英寸液晶面板的檢查,含4、6、8、12英寸多種轉盤,可適用不同尺寸的晶圓檢查。人機工程學設計全面提升,為用戶提供更加舒適、靈活、快捷的操作體驗。


多檔分光比觀察頭設計
采用寬光束成像系統設計,觀察視野,支持26.5mm,帶給您全新的大視野體驗。
保證樣品的移動方向與您通過目鏡觀察到的方向一致,使操作更加得心應手。
三檔式鉸鏈三目觀察筒,在成像光線99%用于雙目觀察或三目攝影的基礎上,增加一檔20%用于雙目觀察,80%用于顯微攝影,方便用戶同時對鏡下圖像與視頻圖像進行對比觀察。

 

安全穩固的機架結構

機身采用低重心、高剛性、高穩定性全金屬型工業檢測專用機架,具備的抗震、吸震能力,保證觀察圖像的穩定性。
 

高性能物鏡轉換器
采用精密軸承設計的高性能物鏡轉換器,轉動手感輕巧舒適,重復定位精度高,物鏡轉換后的同心度也得到較好的控制。
 

大行程機械移動平臺
采用8英寸三層機械移動平臺,可適用于相應尺寸的晶圓或FPD檢測、電路封裝、電路基板、材料、鑄件金屬陶瓷部件、精密磨具的檢測、可觀察較厚的標本。平臺面積525mm×330mm,移動范圍210mm×210mm,采用離合器手柄,只需握住手柄即可靈活移動。另可選6英寸平臺觀察對應樣品。平臺面積445mm ×240mm,移動范圍158mm×158mm,離合平臺操作方式與8英寸相同。
 

豐富多樣的各項附件
可滿足多種工作環境與觀察模式為您展現真實、清晰的顯微圖像
 

級大視野目鏡
配置25mm 寬視野目鏡,相對于常規22mm 的視場范圍,視野更加平坦、寬廣,并且視場邊緣都能保證清晰明亮,給用戶更加舒適的視覺感受。提供更加平坦的觀察范圍,提高工作效率。更大值域屈光度調節范圍可滿足更多用戶的使用需求。
 

長工作距物鏡
配置全套專業半復消色差金相物鏡,采用高透過率鏡片和的鍍膜技術。長工作距設計,可有效避免用戶在切換時物鏡與樣品發生碰撞。配置20X長工作距物鏡,滿足工業檢測領域的需求。每個鏡頭均嚴格挑選高透過率的鏡片和的鍍膜技術,可真實還原樣品的自然色彩。
 

諾曼爾斯基微分干涉襯比系統
采用高性能微分干涉組件,可以將明場觀察下無法檢測的細微高低差,轉化為高對比度的明暗差并以立體浮雕形式表現出來,廣泛用于LCD導電粒子、精密磁盤表面劃痕檢測等領域。

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