1. 設備用途及特點

本設備主要供生產企業針對金屬化合物、陶瓷、無機化合物、納米材料等在真空或保護氣氛的條件下進行加壓加熱燒結處理，以便獲得高致密度的產品，可用于連續生產。設備采用一機壓機循環***，多爐循環加壓的方式，來實現連續加熱加壓燒結。

2. 方案圖

（圖片僅供參考）

3. 主要技術參數

3.1 電源：三相 380V 50Hz

3.2 設備總功率：200Kw±10%

3.3單臺加熱功率：30Kw±10%

3.4***溫度：1100℃

3.5工作區尺寸：Φ300*300（D*H，mm）

3.6加熱控制方式：單臺 加熱控制，6臺整體***

3.7控溫方式：鎢錸熱電偶

3.8控溫精度：±1℃

3.9冷態極限真空度：10Pa（空爐、冷態、烘烤除氣后）

3.10壓升率：3Pa/h

3.11充氣氣氛：惰性氣體

3.12充氣壓力（微正壓）：≤0.03MPa

3.13***壓力：15T（數顯、自動調壓、自動保壓、比例液壓）

3.14壓頭直徑：Ф85 mm

3.15壓力波動：≤±0.1MPa，位移精度≥0.02mm

3.16壓力行程：0～100mm（數顯）

3.17液壓控制：電動