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全自動動態吸附儀(1)產品介紹DAS-7200全自動多功能動態吸附儀是一款自主創新的高品質高性能的自動化動態吸附儀，可以實現加壓，主要可用于化學吸附的測量，操作方式有程序升溫（氧化還原性能、表面酸堿性、表面物種結構和吸附能力）和化學滴定（吸附量、單點化學表面積、多點化學表面積、分散度和顆粒度等）
全自動動態吸附儀
(1) 產品介紹
DAS-7200全自動多功能動態吸附儀是一款自主創新的高品質高性能的自動化動態吸附儀，可以實現加壓，主要可用于化學吸附的測量，操作方式有程序升溫（氧化還原性能、表面酸堿性、表面物種結構和吸附能力）和化學滴定（吸附量、單點化學表面積、多點化學表面積、分散度和顆粒度等）。
該裝置可采用全自動和手動操作模式。使用全自動模式時，可以在設置程序后點擊鼠標，儀器自動完成程序過程，并記錄實驗數據，也可以使用手動操作模式，可實時對程序和測試方法進行添加或修改，方便操作者的操作。該裝置配備完整的測控和數據分析軟件，可完成測定結果的自動化生成，與此同時可對已測定結果進行數據后處理。該吸附儀配備自主研發的高靈敏性檢測器，死體積小，靈敏度高，升溫過程中基線平穩。除此之外，簡便的結構形式方便其與其他分析儀器耦合使用，例如質譜等。總的來說，相比于國內外同類產品，該裝置具有更高的精度、死體積小、重復性好、操作簡便等優勢。
(2) 特點
1. 適用于塊狀和顆粒狀樣品；
2. 該裝置可采用全自動和手動操作模式。使用全自動模式時，可以在設置程序后點擊鼠標，儀器自動完成程序過程，并記錄實驗數據，也可以使用手動操作模式，可實時對程序和測試方法進行添加或修改，方便操作者的操作；
3. 一般在常壓下實驗，也可實現加壓；
4. 配備全自動六通閥，可實現程序升溫還原、程序升溫氧化、程序升溫脫附以及脈沖滴定等過程；
5. 該裝置配備完整的測試軟件，測試程序可根據客戶要求進行編程，并可完成測定結果的自動化生成，與此同時可對已測定結果進行數據后處理；
6. 采用直式反應爐結構，溫度控制精確，程序控溫線性度高；
7. 帶有注射口，注射墊片可更換，方便定量；
8. 通過閥門切換可實現氣體經過或不經過TCD檢測器，防止TCD檢測器被有毒氣體或者腐蝕性氣體腐蝕；
9. 儀器尾氣出口可與色譜（GC）、紅外（IR）、質譜（MASS）等分析儀器聯用；
10. 采用自動進樣六通閥，六通閥外置定量環，配備定量環體積為0.5 ml/1 ml；
11. 配有可觸摸高清電阻屏，可實時設置流量計流量、TCD溫度、TCD橋流等信息；
12. 小型化結構，尺寸為520 mm（寬）*460 mm（高）*410 mm（厚）。
(3) 主要技術指標
1. 反應爐溫度：0~1200 oC（長期恒溫溫度不低于900 oC）；
2. 反應爐溫度曲線：線性可達到99.999%，重復性低于1 oC；
3. 程序升溫速率：0.5~90 oC/min，也可以設置程序降溫程序；
4. 催化劑裝樣體積：0~1 ml（一般使用50~100 mg）；
5. 配備兩路質量流量計，準確度±1.5% F.S，線性偏差±1.5% F.S，精度±0.2% F.S；
6. 軟件上設置多段溫度程序，具有獨立的PID參數，控制精度：0.2% FS；
7. 降溫快，從1000 oC下降至100 oC只需要10 min；
8. TCD死體積<0.02 ml，靈敏度>108 mol-1(NH3)；
9. TCD穩定性好，控溫精度<±0.1 oC。
(4) 軟件操作界面
自動化運行界面
手動操作界面
優點：
1. 包括自動化和手動界面，可實現自動化操作過程，實現無人堅守；也可以進行手動操作過程；
2. 實時監控儀器全狀態，可實時獲取流量計流量、溫度、橋流等信息；
3. 可手動編輯多達14段溫度程序，可點擊執行和降溫按鈕即實行程序運行；
4. 可在配置界面內配置需要的程序，也可以使用軟件自帶的標準程序，或進行進一步地編輯和修改，調出該程序后即自動運行。
(5) 實驗數據
5.1 H2-TPR譜圖
測試條件：取0.1g 活性碳負載催化劑在He氣氛150 oC下處理1 h后降至室溫，切換為5%H2/N2，待基線平穩后程序升溫至600 oC，橋流120 mA， H2/N2混氣流量30 ml/min。
不同焙燒溫度處理的CuO基催化劑的H2-TPR譜圖
5.2 NH3-TPD譜圖
測試條件：取0.1g ZSM-5負載催化劑在He氣氛550 oC下處理30 min，后降溫至100 oC，轉為NH3吸附1 h后再通入He進行吹掃，待基線平穩后程序升溫至900 oC，橋流120 mA，載氣He流量40 ml/min。
ZSM-5負載催化劑的NH3-TPD譜圖
5.3 CO2-TPD譜圖
測試條件：取0.1g不同焙燒溫度處理的CuO基催化劑在He氣氛150 oC下處理1 h，后降溫至40 oC，轉為CO2吸附1 h后再通入He進行吹掃，待基線平穩后程序升溫至800 oC，橋流120 mA，載氣He流量40 ml/min。
不同焙燒溫度處理的CuO基催化劑的CO2-TPD譜圖
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