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MX4R系列 MX4R金相顯微鏡

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靈活的系統組合、的成像性能、穩定的系統結構,MX4R系列專業應用于工業檢測及金相分析領域,各操作機構根據人機工程學設計,大限度減輕使用疲勞

詳細信息 在線詢價

靈活的系統組合、的成像性能、穩定的系統結構,MX4R系列專業應用于工業檢測及金相分析領域,各操作機構根據人機工程學設計,大限度減輕使用疲勞。模塊化的部件設計,可對系統功能進行自由組合。集成了明場、斜照明、偏光、DIC微分干涉等多種觀察功能,可根據實際應用,進行功能選擇。


性能特點

■ 采用無限遠色差校正光學系統

■ 長工作距、明暗場兩用平場消色差物鏡,成像清晰、像面平坦

■ 配備反射式柯拉照明系統,為不同倍率的物鏡提供均勻充足的照明

■ 正像三通觀察筒,30°傾斜,極大的提高了觀察的舒適性與操作的適應性

■ 配備了4寸帶離合器的機械平臺230X215mm,行程105mmX105mm,可快速移動

■ 舒適人機工程學設計,高剛性鏡筒,“Y”型底座,調焦機構采用前置式操作控制,精微調同軸

■ 光源采用寬電壓數字調光技術,具有光強調定與復位功能

■ 可選配攝影攝像裝置、簡易偏光裝置、干涉濾光片、測微尺等附件,拓展應用領域


技術參數

MX4R

MX4R(透反)

光學系統

無限遠色差校正光學系統

觀察方法

明場/斜照明/偏振光/DIC

明場/斜照明/偏振光/DIC/透射光

觀 察 筒

30°鉸鏈式三目,分光比,雙目:三目=10005050

PL10X/22平場高眼點目鏡

轉 換 器

5孔內傾式轉換器,帶DIC插槽

無限遠長工作距明場金相物鏡5X LMPL5X /0.13 WD10.8mm

無限遠長工作距明場金相物鏡10X LMPL10X /0.25 WD10mm

無限遠長工作距明場金相物鏡20X LMPL20X /0.4 WD4mm

無限遠長工作距明場半復消金相物鏡50X LMPLFL50X /0.6 WD7.9mm

無限遠長工作距明場半復消金相物鏡100X LMPLFL100X /0.80 WD2.1mm (選配)

調焦機構

粗微調同軸、粗調行程33mm,微調精度0.001,帶粗調機構上限位及松緊調節裝置。內置90-240V寬電壓變壓器,單路電源輸出

載 物 臺

4英寸機械移動平臺,低手們粗微同軸調節,平臺面積230X215mm,移動范圍:105X105mm,金屬載物臺板,右手位XY移動手輪,配平臺接口

4英寸機械移動平臺,低手們粗微同軸調節,平臺面積230X215mm,移動范圍:105X105mm,玻璃載物臺板,右手位XY移動手輪,配平臺接口

顯微鏡鏡體

粗微調同軸、粗調行程33mm,微調精度0.001mm,,帶粗調機構上限位及松緊調節裝置。內置90-240V寬電壓變壓器,路電源輸出

粗微調同軸、粗調行程33mm,微調精度0.001mm,,帶粗調機構上限位及松緊調節裝置。內置90-240V寬電壓變壓器,路電源輸出

反射照明系統

帶可變視場光闌與孔徑光闌,均可調中心;帶濾色片插槽與偏光裝置插槽;帶斜照明切換拉桿。單顆大功率5W LED,白色,光強連續可調

偏光附件

檢偏鏡可360度旋轉,起偏鏡和檢偏鏡均可移出光路

CTV接口

1X(標配)、1/2X(選配)

透射照明系統

/

單顆大功率5W LED,白色,光強連續可調。N..A.0.5聚光鏡,帶可變孔徑光闌


  • 安全、穩重的機架結構設計

工業檢測級顯微鏡鏡體,低重心、高剛性、高穩定性金屬機架,保證了系統的抗震能力與成像穩定性。
其前置低手位粗微調同軸調焦機構,內置100-240V寬電壓變壓器,可適應不同地區的電網電壓。底座內部設計有風循環散熱系統,長時間使用也不會使機架過熱。

  • 反射照明器

單顆大功率5W白色LED照明,帶斜照明機構。切換至斜照明時,可以使物體表面不同材質部分呈現立體圖案,增加觀察的對比度與視覺效果。

  • 高性能物鏡轉換器

MX4R轉換器采用精密軸承設計,轉動手感輕巧舒適,重復定位精度高,物鏡轉換后的同心度也得到較好的控制,根據需求可配置不同孔位的轉換器。


斜照明

使用斜照明,可以使物體表面不同材質部分呈現立體圖案,增加觀察的對比度與視覺效果。斜照明功能只限于MX4R-MX4R(透反)機型。

明場觀察(透射)

5W大功率LED,配以N.A.0.5聚光鏡,可以透照明下,觀察LCD彩色液晶顯示屏,器件框架邊緣等。

透射照明與反射照明為獨立控制,即可同時亮,也可單獨亮。

明場觀察(反射)

遠心坷拉反射照明系統,配以全新設計的無限遠平場消色差長工作距金相物鏡,從低倍到高倍,都能得到清晰、平坦、明亮的高畫質顯微圖像。

簡易偏光觀察

將起偏器鏡及檢偏鏡插板插入照明的位置,即可進行簡易偏光觀察。檢偏鏡可分為固定式和360°旋轉式兩種。

DIC微分干涉觀察

在正交偏光的基礎上,插入DIC棱鏡,即可進行DIC微分干涉相襯觀察。使用DIC技術,可以使物鏡表面微小的高低差產生明顯的浮雕效果,極大的提高圖像的對比度。

5X、10X、20X專為DIC設計,使得整個視場的干涉一致,微分干涉效果非常出色,高倍物鏡DIC效果也較好。


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