通常的被動減振體系如圖所示，由需要減振的裝置（massM）和一個彈簧阻尼單元組成，它可以減小來自地板的高頻振動

       通常的被動減振體系如圖所示，由需要減振的裝置（mass M）和一個彈簧阻尼單元組成，它可以 減小來自地板的高頻振動。但由于這種體系會在 本征頻率時引起共振而增加振動，通常被動減振 體系會設計成 2 Hz 到 5 Hz 的本征頻率和 1%到 5%的輕微阻尼。主動減振體系是用一個調節器代替了粘滯阻尼器，根據 sky-hook 阻尼控制理 論，將減振裝置（mass M）速度的比例量作 為反饋作用于減振裝置，這樣大大提高了減振的效果。

       較主動隔振系統采用的慣性振動傳感器、的控制算法和較的壓電致動器，通過連續測量地面活動，然后擴展和收縮壓電致動器來過濾地面運動，以實時消除振動。
       較初設計用于隔離半導體工廠中的精密微光刻、計量和檢測設備，現已成為嘈雜環境（包括但不限于半導體工廠、失效分析實驗室、納米技術研究、納米制造設施和材料研究中心）中較敏感儀器的行業標準解決方案。

       通用應用領域：
       掃描探針顯微技術 ， 納米力學探針 ， 掃描電子顯微技術 ，共聚焦顯微術 ，較高真空掃描隧道顯微術，  激光掃描顯微鏡 ，液晶生產設備 ，半導體檢測儀器 ，膜片鉗 （Patch-Clamp）技術 ，光學輪廓儀 ，生命科學顯示平臺 ，顯微硬度檢測儀，光學干涉儀 ，超微量天平等等