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ICP-5000 電感耦合等離子體發射光譜儀(ICP-OES)

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ICP-5000是聚光科技在多年光譜分析儀器研發經驗基礎上,革命性的推出臺全譜直讀ICP-OES產品。ICP-5000豐富的譜線庫具有5萬多條譜線可以選擇,多元素的同步測量能力最多可以同時分析72個元素。在耳目一新的外觀工業設計下,ICP-5000更包含了優化設計的中階梯光柵二維分光系統、性的自激式全固態RF電源,定制的百萬像素防溢出CCD和全自動譜圖采集系統、全面精確的氬氣控制邏輯以及僅有的復雜光室溫控系統,使得ICP-5000具有高分辨率、大動態范圍、高穩定性、低檢出限等優異的基因特點,其分析檢出限、精密度、穩定性達到水平。

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產品概述
ICP-5000是聚光科技在多年光譜分析儀器研發經驗基礎上,革命性的推出臺全譜直讀ICP-OES產品。ICP-5000豐富的譜線庫具有5萬多條譜線可以選擇,多元素的同步測量能力最多可以同時分析72個元素。在耳目一新的外觀工業設計下,ICP-5000更包含了優化設計的中階梯光柵二維分光系統、性的自激式全固態RF電源,定制的百萬像素防溢出CCD和全自動譜圖采集系統、全面精確的氬氣控制邏輯以及僅有的復雜光室溫控系統,使得ICP-5000具有高分辨率、大動態范圍、高穩定性、低檢出限等優異的基因特點,其分析檢出限、精密度、穩定性達到水平。
產品特點

匠心的細節,打造可達RSD0.5%的精密度

的工藝,實現RSD2%8小時穩定性

極易用的軟硬件設計,一切想你所想

豐富的配件,靈活的配置和極低的消耗,讓您后顧無憂

技術參數:
1.高頻發生器       
輸出功率:0.75-1.5kW或更寬,連續可調
功率穩定性<0.1%;頻率穩定性<0.1%
炬管:安裝方便、自動定位準確
霧化器氣流、等離子體氣、輔助氣由質量流量控制器控制,控制精度≤0.01L/min
2. 檢出限: Al 167.0nm、P 178.2nm、B182.6nm、Se 196.0 nm、Pb 220.3 nm、 Na、K等檢出限均優于10 µg/L。

技術性能:

精密穩定可靠的系統

平穩的進樣系統

精密的等離子體

可靠的水冷系統

穩固的光學系統

科研級防溢高速CCD及數采系統

操作便易的維護與監控

極少的維護量

可視化的監控系統

可拆卸式炬管

自動化的炬管準直、光源優化等儀器優化功能

友好易用、功能強大的Element V分析軟件

強大的Element V分析平臺

完備的方法庫

人性化的方法庫管理

節能降耗

針對不同應用具有雙向觀測和垂直觀測兩種配置

多項措施降低氬氣消耗

 


應用領域
金屬、水利、電子、地礦、石油石化、出入境


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