激光燒蝕進樣是80 年代末、90 年代初形成的一種新型的固體分析技術。當聚集的激光束以足夠的能量耦合在樣品表面時,樣品表面的物質被熔融、濺射和蒸發, 形成的樣品蒸氣與細微顆粒由載氣傳輸至等離子體中被原子化、離子化，為質譜、光譜等儀器提供一種新型的固體進樣方式。

激光燒蝕進樣是80 年代末、90 年代初形成的一種新型的固體分析技術。當聚集的激光束以足夠的能量耦合在樣品表面時,樣品表面的物質被熔融、濺射和蒸發, 形成的樣品蒸氣與細微顆粒由載氣傳輸至等離子體中被原子化、離子化，為質譜、光譜等儀器提供一種新型的固體進樣方式。

儀器特點：

激光燒蝕原位進樣系統具有原位、實時、快速的分析優勢和靈敏度高、空間分辨率<10um的特點，對樣品微區分析、材料表面的元素分布分析、薄膜或鍍層的深度分析等方面都具有獨特的優勢；固體樣品不需分解，可以直接測定，避免了樣品前處理過程中引入的污染和難溶樣品溶解困難的問題。

儀器參數：

一.激光光源及光路系統
?   激光器類型：燈泵浦的固體調Q激光器
?   波長：213nm
?   頻率：（1、2、5、10）Hz，可調
?   輸出能量：>=9mJ@213nm
?   光斑大小：4μm~110μm,12個光斑尺寸可調，計算機控制

二.樣品控制掃描系統
?   二維電機行程：85mm*85mm
?   定位分辨率：1μm
?   定位精度：5μm
?   重復定位精度：3μm

三．樣品載帶及氣路控制
?   樣品倉：密閉腔室
?   氣路控制：計算機控制，電磁閥切換
?   流量控制：MFC計算機控制

四.樣品成像系統
?   視場范圍：0.65*0.53mm
?   放大倍數：10×
?   分辨率：1280x1024