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1200℃預加熱滑動雙溫區/多溫區PECVD系統

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產品應用:PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。

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產品應用:

PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。

產品組成:

PECVD系統配置:

1.1200度開啟式雙溫區真空管式爐

2.滑動系統分為手動、電動滑動,并配置管內測溫系統。

3.預加熱開啟式管式電爐

4.等離子射頻電源

5.多路質量流量控制系統

6.真空系統(可選配中真空或高真空)  

產品特點:

生長溫度低;沉積速率快;成膜質量好,適用范圍廣,設備簡單。

天津中環電爐股份有限公司

|

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