應(yīng)用
Neocera公司的使命是為研究新型*薄膜材料和器件的科學(xué)家和工程師提供服務(wù)。我們通過(guò)以下手段來(lái)實(shí)現(xiàn)此目標(biāo)：
l 發(fā)展在材料科學(xué)和器件工程方面的基礎(chǔ)競(jìng)爭(zhēng)力
l 在薄膜制造方面，的脈沖電子束鍍膜（PED）和脈沖激光鍍膜（PLD）設(shè)備
l 提供的技術(shù)支持
l 參與共同的研究與開發(fā)
Neocera公司是一家PED 和PLD設(shè)備的增值供應(yīng)商。在PED 和PLD科學(xué)和技術(shù)的前沿方面，我們的解決方案；我們的設(shè)備和實(shí)際經(jīng)驗(yàn)將幫助解決你們的問(wèn)題。
另外，Neocera公司參與政府部門和工業(yè)客戶的前沿的研究與開發(fā)；作為材料科學(xué)家，我們了解你們的需要。
技術(shù)指標(biāo)
一、 PED-120系統(tǒng)的技術(shù)指標(biāo)
l PEBS-20脈沖電子源和電源
l 真空腔：直徑12"
Ø 額定基壓：<1x10-6 Torr
l 基片加熱器，直徑2"，帶控溫器
Ø 氧氣可達(dá)大氣壓力
Ø 溫度：950 °C
Ø 溫度均勻性：±5 °C
Ø 溫度穩(wěn)定性：±1 °C
Ø 基片加熱器檔板
l 靶盒，手動(dòng)控制
Ø 可放置6個(gè)1"的靶或3個(gè)2"的靶
Ø 靶與法蘭的距離：4"
l 氣路
Ø 質(zhì)量流量計(jì)控制進(jìn)入真空腔的流量，量程100sccm
Ø 控制采用單通道設(shè)置/數(shù)值顯示
l 真空泵系統(tǒng)
Ø 260 l/s 帶冷阱的渦輪分子泵，高真空泵
Ø 4 m3/hr無(wú)油機(jī)械泵
Ø 8"閘板閥，手動(dòng)控制
Ø 排氣/出氣閥，用于氧氣的安全操作
l 真空計(jì)，顯示讀數(shù)
Ø 冷陰極型
Ø 對(duì)流型
l 系統(tǒng)框架
Ø 占地面積：22” 34”D
Ø 空間： 30” 34”D
Ø 總高度： 54"-58"
Ø 標(biāo)準(zhǔn)19"電子元件安裝架
Ø 腳輪和水平調(diào)節(jié)器
l 電源
Ø 110-240 VAC/50 Hz, 20 A，單相
二、PEBS-20脈沖電子源系統(tǒng)的技術(shù)指標(biāo)
組成：
l PEBS-20脈沖電子源
l 電源
l 電子控制系統(tǒng)
l 預(yù)裝軟件的控制計(jì)算機(jī)
技術(shù)指標(biāo)：
電壓：115-230 VAC, 50/60 Hz, 單相
氧氣壓力：5-20 mTorr
電子能量：8-20 kV
單次脈沖能量：0.1 – 0.8 J
脈沖能量偏差（Max）：±10%
能量轉(zhuǎn)換效率：25-30%
脈沖持續(xù)時(shí)間：~100 ns
脈沖重復(fù)速率（Max）：15 Hz
電子束斑面積（Min）：6 x 10-2 cm2
電子束斑面積偏差（Max）：±20%
脈沖能量密度（Max）：1.3 x 108 W/ cm2
Z軸移動(dòng)距離：50 mm
XY軸移動(dòng)距離：±20 mm
工作壽命：107 次脈沖
PEBS源的工作溫度（Max）：85 °C
特點(diǎn)
脈沖電子束沉積（PED）的特點(diǎn)
與CW技術(shù)相比，例如傳統(tǒng)的電子束蒸發(fā)，脈沖系統(tǒng)的主要特點(diǎn)是可以在靶材表面上
產(chǎn)生達(dá)108W/cm2的高能量密度。因此，靶材的熱動(dòng)力學(xué)特性比如熔點(diǎn)和比熱等
在蒸發(fā)過(guò)程中就變得不重要了。這一點(diǎn)對(duì)復(fù)雜的、多組分材料特別具有優(yōu)勢(shì)。與脈
沖激光沉積（PLD）相比，脈沖電子束沉積（PED）技術(shù)提供了的平臺(tái)，在
一系列具有重要技術(shù)價(jià)值的基片上沉積復(fù)雜材料的薄膜，其*的優(yōu)點(diǎn)在于擴(kuò)展了
材料的范圍和應(yīng)用。這種方法在大批量生產(chǎn)中可以大規(guī)模應(yīng)用且成本低廉。
