供應掃描電子顯微鏡 場發射電子顯微鏡∑IGMA 德國.蔡司，歡迎洽談！

詳細描述：

品牌：卡爾·蔡司

型號：∑IGMA

制造商：德國卡爾蔡司公司

【品牌故事】

      世界*光學品牌，可見光及電子光學的----德國蔡司公司始創于1846年。其電子光學前身為LEO（里奧）,更早叫Cambridge（劍橋），積掃描電鏡領域40多年及透射電鏡領域60年的經驗，ZEISS電子束技術在世界上創造了數個*：

  *臺靜電式透射電鏡（1949）

  *臺商業化掃描電鏡（1965）

  *臺數字化掃描電鏡（1985）

  *臺場發射掃描電鏡（1990）

  *臺帶有成像濾波器的透射電鏡（1992）

  *臺具有Koehler照明的200kV場發射透射電鏡（2003）

  *臺具有鏡筒內校正Omega能量濾波器的場發射透射電鏡（2003）

       CARL ZEISS以其前瞻性**的設計融合歐洲*制造工藝造就了該品牌在光電子領域無可撼動的*地位。自成立至今，一直延續不斷創新的傳統，公司擁有電鏡制造zui核心的專有技術，隨著離子束技術和基于電子束的分析技術的加入、是*為您提供鎢燈絲掃描電鏡、場發射掃描電鏡、雙束顯微鏡（FIB and SEM）、透射電子顯微鏡等全系列解決方案的電鏡制造企業。其產品的高性能、高質量、高可靠性和穩定性已得到*廣大用戶的信賴與認可。作為電鏡標準*的CARL ZEISS將一路*電鏡市場為您開創探求納米科技的嶄新紀元。

【總體描述】

      采用*的第三代GEMINI鏡筒的∑IGMA場發射電子顯微鏡在處理所有材料方面有杰出表現。GEMINI鏡筒因其操作簡單，極低壓成像和超穩定探測電流等優勢得到廣大用戶的認可，同時可提供高分辨率的能譜分析和波譜分析.                  

      ∑IGMA可處理直徑達250mm和高為145mm的試樣，此外，理想的共面設計使得能譜分析（EDS）和背散射電子分析（EBSD）同時使用。

【技術參數】

  分辨率：1.3nm@ 20KV   1.5nm@ 15KV     2.8nm@ 1KV  

  放大倍數：12–1,000,000x  

  加速電壓：0.1-30KV  

  探針電流：4 pA - 20 nA （4pA-40nA可選）

  樣品室：330 mm （φ） x 270 mm （h）  

  樣品臺：5軸優中心全自動

                   X = 125 mm  

                   Y = 125 mm  

                   Z = 50mm

                   T = 0 - 90°  

                   R = 360°連續旋轉  

  系統控制：基于Windows XP的SmartSEM操作系統,可選鼠標、鍵盤、控制面板控制

【產品應用】      

      掃描電鏡（SEM）廣泛地應用于金屬材料（鋼鐵、冶金、有色、機械加工）和非金屬材料（化學、化工、石油、地質礦物學、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維）等檢驗和研究。在材料科學研究、金屬材料、陶瓷材料、半導體材料、化學材料等領域進行材料的微觀形貌、組織、成分分析，各種材料的形貌組織觀察，材料斷口分析和失效分析，材料實時微區成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面掃描和線掃描分布測量，晶體、晶粒的相鑒定，晶粒尺寸、形狀分析，晶體、晶粒取向測量。