中科院微電子研究所勻膠機/旋涂儀送3吸盤適應于半導體硅片，載玻片，晶片，基片，ITO導電玻璃等工藝，制版的表面涂覆。該產品具有轉速穩定和啟動迅速等優點，并能保證半導體材料中涂膠厚度的一致性和均勻性。通常配真空泵一起使用。目前的型號有KW-4A、KW-4T和KW-5型。

中科院微電子研究所勻膠機/旋涂儀送3吸盤

適應于半導體硅片，載玻片，晶片，基片，ITO導電玻璃等工藝，制版的表面涂覆。該產品具有轉速穩定和啟動迅速等優點，并能保證半導體材料中涂膠厚度的一致性和均勻性。通常配真空泵一起使用。目前的型號有KW-4A、KW-4T和KW-5型。 

產品主要特點 

1、開關電流調速，穩定性能更好，轉速調節以數字顯示為準。 

2、轉速在500～8000轉／分范圍內非常穩定。   

3、采用雙轉速。在啟動之后，先以低速運轉，使膠攤開，然后自動轉換到高速運轉。兩種轉速及相應的時間分別可調，時間分別控制在1～18秒和3秒～1分鐘。 

4、具有定時功能。  

5、測速采用光電的辦法，產生光電脈沖，由晶體分頻測速準確性高。  

6、"吸片"采用電磁閥控制氣路，一個氣泵可同時帶幾臺勻膠機工作，適合流水線的工藝，提高了效率。   

7、在安裝結構上，采取了減振措施，保證了在運轉時噪音低。

 中科院微電子研究所勻膠機/旋涂儀送3吸盤參數