圖形發生器，適用于您的SEM，FIB或SEM-FIB雙束系統。Raith的ELPHY是非常靈活的，且在可承受的價格上提供了良好的性能。Raith建立了世界范圍久經考驗的服務體系，為您更好地使用ELPHY提供了技術保障。

ELPHY MultiBeam 圖形發生器將在多技術納米加工中的全新進展，和在優異的電子束曝光性能基礎上升級出的三維離子束加工相結合，ELPHY MultiBeam在一種分析型的FIB-SEM雙束系統上實現了真正的光刻加工能力。
ELPHY Plus 圖形發生器更多地被用于場掃描電鏡FE SEM，聚焦離子束系統FIB或SEM-FIB雙束系統上，是一種*的解決方案。它硬件性能優異，在高速度直寫過程中，電子信號質量更好。
ELPHY Quantum 圖形發生器是一種被廣泛采用的解決方案，可用于您的掃描電鏡SEM和聚焦離子束系統FIB上。它性能可靠，功能齊全，且經濟實惠。
緊湊的激光干涉工作臺是由Raith自己研制生產的，它幫助克服了掃描電鏡用于光刻的局限性，如對于高級應用掃描電鏡無法實現拼接和精確定位。

您的掃描電鏡和聚焦離子束系統上配備了我們的的電子束光刻圖形發生器，即使在高速直寫時，技術性能和穩定性都非常棒。我們的技術支持工程師團隊將為您提供專業的培訓，解決技術問題。如果您有任何問題，我們將十分樂意幫助您，為您提供進一步的信息和咨詢。

在80年代末，Raith提供了集成到SEM和FIB系統上的一套商業機器。現在，在科研領域，上百套的SEM和FIB系統上集成了我們的圖形發生器，具備了納米圖型化的能力。

Raith的ELPHY圖形發生器是非常靈活的，且在可承受的價格上提供了良好的性能。Raith建立了世界范圍久經考驗的服務體系，為您更好地使用ELPHY圖形發生器提供了技術保障。