NanoCalc-2000-UV/VIS/NIR膜厚測量儀

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北京征程創拓科技有限公司
2016-01-04 16:00:00
國外
美國
999

【簡單介紹】

NanoCalc-2000是一種用戶可配置的膜厚測量系統，它利用分光光譜反射儀來精確地測量光學或非光學薄膜厚度，可廣泛用于半導體、醫療和工業生產中。

【詳細說明】

NanoCalc-2000-UV/VIS/NIR膜厚測量儀的原理：

利用白光干涉測量法的原理，NanoCalc-2000用一個寬光譜的光源來測得不同波長的反射數據，由于反射率n和消光系數k隨膜厚的不同而變化，NanoCalc-2000根據這一特性來進行曲線擬合從而求得膜厚。在NanoCalc-2000中，不同類型材料的相應參數通過不同的模型來描述，從而保證了不同類型材料膜厚測量的準確性。

NanoCalc-2000-UV/VIS/NIR膜厚測量儀的特點：

UV/VIS/NIR高分辨率的配置
測量準確度在1nm，精度在0.1nm
可測量4層薄膜的任意3層
薄膜測量zui小可至10nm，zui大可至400um
可測量zui小1nm厚的透明金屬層
提供用于復雜外形材料測量的試驗臺及附件
對表面缺陷和光滑度不敏感
龐大的材質數據庫，保證各種材料的精確測量

NanoCalc-2000-UV/VIS/NIR膜厚測量儀的技術參數：


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