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OmniES-Plasma等離子體發射光譜測量系統
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- 北京卓立漢光儀器有限公司
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- 2015-12-02 14:00:00
- 北京市
- 北京市中關村科技園區通州園金橋產業基地 環科中路16號,聯東U谷中試區68號B座
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【簡單介紹】
【詳細說明】
| ● 該系統用于測量等離子體發射光譜測量，采用模塊化設計 ● 采用光纖導光或空間光耦合 ● 可精確定位測量空間位置（選配功能） ● 測量光譜范圍：200-2500nm或1μm-14μm ● 光譜分辨率：優于0.05nm（@1200g/mm光柵） ● 波長準確度：優于±0.2nm ● 波長重復性：優于±0.1nm ● 光譜儀控制軟件包含濾光片輪自動控制功能、光譜曲線繪制功能、全自動測量、數據運算、保存及打印等功能 |
