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納米級鍍層的快速、準確分析
 

　　FT160 XRF鍍層分析儀準確、可靠地測量小部件上的鍍層，有助于您在PCB、半導體晶片和微連接器上維持一致且準確的鍍層。
 

　　FT160專為微焦斑和超薄鍍層分析而設計，針對小部件的測量優化了光學系統和探測器技術。
 

　　使用FT160 XRF鍍層分析儀可實現更多操作：
 

　　高強度X射線——儀器的核心是一個具有30μm光束的新型毛細管光學系統，非常適合微小的半導體圖案和超小組件。
 

　　高靈敏度的SDD探測器——這款高性能設備使計數速率翻倍，從而提高生產率。
 

　　高清相機——觀察相機的分辨率高，其具有16倍數字變焦功能，更容易觀察半導體和PCB表面并易于導航。
 

　　智能控制器軟件——可對FT160進行依照形狀和圖案自動查找測量位置的編程，以提高測量吞吐量和準確性。
 

　　精密分析
 

　　樣品臺定位精度和毛細管X射線光學系統能提供高精度，可測量尺寸小于50µm的部件上的納米級鍍層。
 

　　快速分析
 

　　與傳統裝置相比，FT160內的新型高強度毛細管光學系統和改良版SDD探測器有助于使儀器的測量吞吐量翻倍。
 

　　多功能性
 

　　大型樣品門有助于輕松裝載和移除部件，同時大型樣品臺可容納各種形狀和尺寸的組件。
 

　　耐用性
 

　　堅固耐用的機架經過設計和測試，可在具有挑戰性的生產或實驗室環境中長時間使用。
 

　　FT160的強大功能使其成為工作繁重的實驗室的理想選擇。為維持工作流程，這些實驗室注重準確性、多功能性和分析效率。
 

　　FT160能夠提供：
 

　　|毛細管光學系統和高靈敏度的SDD探測器，以提供出色準確性。
 

　　|測量尺寸小于50µm的部件。
 

　　|快速結果和使用簡易性，以支持高吞吐量。
 

　　|用于快速設置樣品的大型樣品門和樣品臺。
 

　　|進行測試觀察的大型樣品觀察窗。