Picosun R-200系列原子層沉積體統是一款多種能的原子層沉積平臺，是用于研發的理想選擇，適用于IC器件、MEMS器件、顯示器、led、激光、3D物體如鏡片、光學、珠寶、硬幣、醫療植入物等數十種應用的研發

產品簡介：

Picosun R-200系列原子層沉積體統是一款多種能的原子層沉積平臺，是用于研發的理想選擇，適用于IC器件、MEMS器件、顯示器、led、激光、3D物體如鏡片、光學、珠寶、硬幣、醫療植入物等數十種應用的研發。

主要技術參數：

·適用2-8inch的單片晶圓；

·工藝溫度：50-500℃，Advance型號配有等離子處理系統，工藝溫度450℃（可選配特定chuck盤至650℃）；

·適用鍍膜種類：Al2O3, TiO2, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, ZrO2, AlN, TiN，Pt，Ir等；

·手動上料，可選配機械臂，搬運機器人或Cassette-to-Cassette上料；

·前驅體種類：液體，固體，氣體，等離子體，臭氧體等；