全譜直讀光譜儀更多關于全譜直讀光譜儀相關疑問，產品概述：優勢：1、的第二代CCD全譜光譜儀制造技術（數字化技術替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術）、通道不受限制

全譜直讀光譜儀

更多關于全譜直讀光譜儀相關疑問，

產品概述：
優勢：

1、的第二代CCD全譜光譜儀制造技術（數字化技術替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術）、通道不受限制 ；

2、引進歐洲技術、同國際光譜儀技術同步，國內能生產真空CCD全譜技術光譜儀的制造商；

3、基體范圍內通道改變、增加不需費用

4、升級多基體方便，無須變動增加硬件 ；

5、優良的數據穩定性，同一樣品不同的時間段分析，可獲得良好的數據一致性 ；

6、體積小、重量輕， 移動安裝方便 ；

7、高集成度、高可靠性、高穩定性 ；

8、節電、節材、能耗只是普通光譜儀50%。

主要特點：

• 1、可測定包括痕量碳（C），磷（P）,硫（S）元素,適用于多種金屬基體，如：鐵基，鋁基，銅基，鎳基，鉻基，鈦  基，鎂基，鋅基，錫基和鉛基。全譜技術覆蓋了全元素分析范圍，可根據客戶需要選擇通道元素；

• 2、分析速度快捷，20秒內測完所有通道的元素成分。針對不同的分析材料，通過設置預燃時間及標線，使儀器用最短的時間達到的分析效果；

• 3、光學系統采用真空恒溫光室， 激發時產生的弧焰由透鏡直接導入真空光室，實現光路直通,消除了光路損耗，提高檢出限，測定結果準確，重現性及長期穩定性；

• 4、特殊的光室結構設計，使真空室容積更小，抽真空速度不到普通光譜儀的一半；

• 5、自動光路校準，光學系統自動進行譜線掃描，確保接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動識別特定譜線，與原存儲線進行對比，確定漂移位置，找出分析線當前的像素位置進行測定；

• 6、開放式的電極架設計，可以調整的樣品夾，便于各種形狀和尺寸的樣品分析；

• 7、工作曲線采用國際標樣，預做工作曲線，可根據需要延伸及擴展范圍，每條曲線由多達幾十塊標樣激發生成，自動扣除干擾；

• 8、HEPS數字化固態光源，適應各種不同材料 ；

• 9、固態吸附阱，防止油氣對光室的污染，提高長期運行穩定性；

• 10、銅火花臺底座，提高散熱性及堅固性能；

• 11、合理的氬氣氣路設計，使樣品激發時氬氣沖洗時間縮短，為用戶節省氬氣，氬氣消耗不到普通光譜儀的一半；

• 12、采用鎢材料電極，電極使用壽命更長，并設計了電極自吹掃功能，清潔電極更加容易；

• 13、高性能DSP及ARM處理器，具有超高速數據采集及控制功能并自動實時監測光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發室等模塊的運行狀況；

• 14、儀器與計算機之間采用以太網連接，抗干擾性能好，外部計算機升級與儀器配置無關，使儀器具有更好的適用性；

• 15、核心器件全部，保證了儀器優秀的品質。

• 產品參數指標：

   

  光學系統
  光學結構	帕邢-龍格結構的全譜真空型光學系統
  光室溫度	自動控制恒溫：35℃±0.5℃
  波長范圍	160-800nm
  光柵焦距	350 mm
  光柵刻線	3600 l/mm
  一級光譜線色散率	1.2 nm/mm
  探測器	多塊高性能線陣CCD
  平均分辨率	10pm/pixel
  激發臺
  氣   體	沖氬式
  氬氣流量	激發時3-5L/min， 待機時:無須待機流量
  電   極	鎢材噴射電極技術
  吹   掃	點擊自吹掃功能
  補   償	熱變形自補償設計
  分析間隙	樣品臺分析間隙：4mm
  激發光源
  類   型	HEPS數字化固態光源
  頻   率	100-1000Hz
  放電電流	1-80A
  特殊技術	放電參數優化設計
  預   燃	高能預燃技術
  數據采集系統
  處理器	ARM處理器，高速數據同步采集處理
  接   口	基于DM9000A的以太數據傳輸
  電源與環境要求
  輸   入	220VAC 50Hz
  功   率	分析時700W，待機狀態40W
  工作溫度	10-30℃（該溫度范圍內溫度變化不大于5℃/h）
  工作濕度	20-80%
  尺寸與重量
  主機尺寸	800*750*500 mm
  重      量	120Kg

  第二代CCD光譜儀技術, 廣泛應用于冶金、鑄造、機械、汽車制造、航空航天、兵器、金屬加工等領域的生產工藝控制，爐前化驗，中心實驗室成品檢驗。落地式全譜直讀光譜儀體積小、穩定性好、檢測限低、分析速度快、運行成本低、操作維護方便，是控制產品質量的理想選擇。

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